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J-GLOBAL ID：201802251996060334   整理番号：18A1429823

二つの回転電場を用いた大質量クラスタイオンビームのサイズ分布測定法【JST・京大機械翻訳】

Method to measure the size distribution of massive cluster ion beams using two rotating electric fields

著者 (7件)： Moritani Kousuke (Graduate School of Engineering, University of Hyogo, 2167 Shosha, Himeji, Hyogo 671-2201, Japan) ,  Hotta Masanao (Office TANDEM L.L.C., 4-2-4 Minamisawa, Higashi-kurume, Tokyo 203-0023, Japan) ,  Nojima Masashi (Research Institute for Science and Technology, Tokyo University of Science, 2641 Yamazaki, Noda, Chiba 278-8510, Japan) ,  Kurumi Satoshi (College of Science and Technology, Nihon University, 1-8-14 Kanda-Surugadai, Chiyoda-ku, Tokyo 101-8308, Japan) ,  Suzuki Kaoru (College of Science and Technology, Nihon University, 1-8-14 Kanda-Surugadai, Chiyoda-ku, Tokyo 101-8308, Japan) ,  Adachi Tatsuya (Ampere, Inc., Saito Bldg., 7-5-3 Nishi-Shinjuku, Shinjuku-ku, Tokyo 160-0023, Japan) ,  Kusanagi Takashi (Ampere, Inc., Saito Bldg., 7-5-3 Nishi-Shinjuku, Shinjuku-ku, Tokyo 160-0023, Japan)
資料名： Nuclear Instruments & Methods in Physics Research. Section B. Beam Interactions with Materials and Atoms  (Nuclear Instruments & Methods in Physics Research. Section B. Beam Interactions with Materials and Atoms)
巻： 432  ページ： 1-4  発行年： 2018年 
JST資料番号： H0899A  ISSN： 0168-583X  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 二つの回転電場(REFs)型質量フィルタと結合したガスクラスタイオンビーム(GCIB)源を開発した。質量がすべての質量範囲において一定の質量分解能で連続イオンビームから分離できるので,REF法は大量クラスタイオンビームの質量フィルタに適している。原理的に,質量範囲は無制限である。この装置を用いて,Arクラスタイオンビームのサイズ分布を測定した。REFs法は少なくとも40~160,000Daの広い質量範囲を有する。この装置で発生したArクラスタイオンビームのピーククラスタサイズは900である。Ar+による蛍光スクリーン上に投影された環状パターンは,REFs質量フィルタに対する最大推定質量分解能(M/ΔM)が,0.12mmのビーム直径における半値全幅(FWHM)に対して86であることを示した。この質量フィルタは,クラスタ物理学の研究だけでなく,サイズ選択した大量クラスタイオンビームの新しい応用を実現するはずである。Copyright 2018 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： FWHM ,  *イオンビーム ,  *クラスタ ,  フィルタ ,  環状 ,  ガスクラスターイオンビーム ,  *クラスタイオンビーム
準シソーラス用語： クラスタサイズ ,  質量分解能 ,  *サイズ分布 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： GCIB ,  クラスタイオンビーム ,  マスフィルタ ,  回転電場 ,  二次イオン質量分析

分類 (3件)： 電子ビーム,イオンビーム  (BD02030F) ,  半導体の放射線による構造と物性の変化  (BK16123E) ,  チャネリング,ブロッキング,粒子のエネルギー損失  (BK16100J)

タイトルに関連する用語 (4件)： 回転電場 ,  クラスタイオンビーム ,  サイズ分布 ,  測定法