文献

J-GLOBAL ID：201802254799303031   整理番号：18A0178141

マイクロ波励起大気圧直線プラズマの生成のその応用

Generation of microwave-excited atmospheric-pressure line plasma and its application

著者 (4件)： KUWAHATA Hiroshi (Tokai Univ., Kanagawa, JPN) ,  MIYATA Hiroshi (Tokai Univ., Kanagawa, JPN) ,  ISOMURA Masao (Tokai Univ., Kanagawa, JPN) ,  SHINDO Haruo (Plasma Res. Lab. Co., Ltd., Kanagawa, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics  (Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 56  号： 12  ページ： 126201.1-126201.6  発行年： 2017年12月 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  CODEN： JJAPB6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 新たな2.45GHzマイクロ波励起大気圧直線プラズマシステムを開発した。1100Wのマイクロ波出力で,空気中で約350mmの長さと約6mmの幅を持つ大気圧ヘリウム(He)直線プラズマが生成された。He直線プラズマの長さは,マイクロ波管内の導波路の幅とショートプランジャの位置を変えることによって,約120~350mmの範囲で変化した。He直線プラズマを用いてSiウエハを10秒間照射した場合,Siウエハの表面がベルト型の超親水性になった。これらの結果に基づいて,新たな大気圧He直線プラズマシステムは,フラットパネルディスプレーに用いられる半導体基板やガラス板などのような大領域表面をドライクリーニングすることにとって効果的であることがわかった。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： マイクロ波 ,  *大気プラズマ ,  *プラズマ曝露 ,  ヘリウム ,  マイクロ波管 ,  ウエハ【IC】 ,  ドライクリーニング ,  *プラズマ応用
準シソーラス用語： *プラズマ照射 ,  Siウエハ

分類 (2件)： プラズマ応用  (BJ02110K) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

引用文献 (47件)：

• C. H. Yi, Y. H. Lee, and G. Y. Yeom, Surf. Coatings Technol. 171, 237 (2003).
• T. Yamamoto, M. Okubo, N. Imai, and Y. Mori, Plasma Chem. Plasma Process. 24, 1 (2004).
• M. Iwasaki, H. Inui, Y. Matsudaira, H. Kano, N. Yoshida, M. Ito, and M. Hori, Appl. Phys. Lett. 92, 081503 (2008).
• H. Kuwahata and R. Ohyama, Hyomen Kagaku 30, 174 (2009) [in Japanese].
• S. B. Habib, E. Gonzalez, II, and R. F. Hicks, J. Vac. Sci. Technol. A 28, 476 (2010).

タイトルに関連する用語 (6件)： マイクロ波 ,  励起 ,  大気圧 ,  直線 ,  プラズマ ,  応用