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J-GLOBAL ID:201802256535821656   整理番号:18A1859990

パワーVDMOSトランジスタにおけるNBTIと照射関連劣化機構【JST・京大機械翻訳】

NBTI and irradiation related degradation mechanisms in power VDMOS transistors
著者 (10件):
資料名:
巻: 88-90  ページ: 135-141  発行年: 2018年 
JST資料番号: C0530A  ISSN: 0026-2714  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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本論文では,以前に照射されたデバイスにおけるNBT応力効果が,受信された全線量に強く依存することを示した。すなわち,低線量照射の場合,その後のNBT応力は更なるデバイス劣化をもたらすと思われる。一方,以前に高線量に照射されたデバイスの場合,NBTストレスは放射線誘発分解の一部を実質的にアニールするのでプラスの役割を持つと思われる。NBT応力がほぼ完全に放射線誘起劣化をアニールする全線量を約60Gyと決定した。Copyright 2018 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (3件):
分類
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固体デバイス計測・試験・信頼性  ,  半導体集積回路  ,  トランジスタ 
タイトルに関連する用語 (2件):
タイトルに関連する用語
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