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J-GLOBAL ID：201802259731837882   整理番号：18A0377098

金属酸化物混合粉末ターゲットを用いたマグネトロンスパッタリングによる金属ドープSiO₂薄膜の作製

Preparation of metal doped SiO₂ films by magnetron sputtering deposition using metal oxide mixture powder target

著者 (6件)： Kawasaki H. (National Institute of Technology, Sasebo College) ,  Ohshima T. (National Institute of Technology, Sasebo College) ,  Yagyu Y. (National Institute of Technology, Sasebo College) ,  Ihara T. (National Institute of Technology, Sasebo College) ,  Shinohara M. (National Institute of Technology, Sasebo College) ,  Suda Y. (National Institute of Technology, Ishikawa College)
資料名： Transactions of the Materials Research Society of Japan  (Transactions of the Materials Research Society of Japan)
巻： 43  号： 1  ページ： 27-30(J-STAGE)  発行年： 2018年 
JST資料番号： L4468A  ISSN： 1382-3469  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 金属酸化物とSiO₂粉末混合ターゲットを用いたスパッタ蒸着法により,UV励起による強いルミネセンスを示す金属ドープSiO₂薄膜を調製した。粉末ターゲットを用いたプラズマの温度と電子密度は,粉末ターゲットの混合物とは無関係でほぼ同じであった。しかし,プラズマのピーク強度比は,粉末ターゲット混合物の強度に依存する。XPS測定は,金属ドープSiO₂薄膜は,金属酸化物とSiO₂混合粉末ターゲットを使用して調製でき,その濃度比も粉末ターゲット混合物に依存することを示す。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： ドーピング ,  マグネトロンスパッタリング ,  スパッタ蒸着 ,  紫外発光スペクトル ,  *蒸着膜 ,  ターゲット ,  *二酸化ケイ素 ,  粉末冶金 ,  紫外線照射 ,  混合物 ,  金属酸化物 ,  電子温度 ,  放射強度 ,  電子密度 ,  酸化スズ ,  酸化ゲルマニウム ,  酸化チタン
準シソーラス用語： 機能性薄膜 ,  混合粉体 ,  発光強度

著者キーワード (3件)： powder target ,  sputtering deposition method ,  functional thin films

分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  無機化合物のルミネセンス  (BM08093J)

引用文献 (22件)：

• [1] T. Une, S. Noge, and K. Kasahara, IEICE Trans. E92-C (2009) 1454.
• [2] S. Fujitsuka, S. Noge, and S. Uno, Ferroelectrics, 357 (2007) 80.
• [3] J. Ikushima, T. Fujikawa, and K. Saite, J. Appl. Phys. 88 (2000) 1201.
• [4] T. Fujikawa, D. Wong, Y. Zhao, S. Fleming, S. Poole, and M. Sceats, Electronic Lett., 31 (1995) 573.
• [5] J.-I. Song, Appl. Phys. Lett. 90 (2007) 022106.

タイトルに関連する用語 (8件)： 金属酸化物 ,  混合粉末 ,  ターゲット ,  マグネトロンスパッタリング ,  ドープ ,  SiO2 ,  薄膜 ,  作製