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J-GLOBAL ID：201802261565688462   整理番号：18A1763021

スルホン化ポリイミド薄膜における主鎖剛直性とプロトン伝導

著者 (8件)： 長尾祐樹 (北陸先端科学技術大学院大) ,  高倉健作 (北陸先端科学技術大学院大) ,  小野祐太朗 (北陸先端科学技術大学院大) ,  後藤崚介 (名大 院) ,  末次輝太 (名大 院) ,  原光生 (名大 院) ,  永野修作 (名大 VBL) ,  安部隆 (新潟大 大学院)
資料名： 高分子学会予稿集(CD-ROM)  (高分子学会討論会予稿集(CD-ROM))
巻： 67  号： 2  ページ： ROMBUNNO.1O14  発行年： 2018年08月29日 
JST資料番号： Z0703C  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： リオトロピック液晶 ,  プロトン伝導 ,  高分子電解質 ,  ポリイミド ,  電気伝導率 ,  ラメラ ,  高分子薄膜 ,  スメクチック相 ,  小角X線散乱 ,  相対湿度 ,  水分子 ,  芳香族ポリイミド ,  *高分子鎖 ,  スルホン化ポリイミド ,  プロトン伝導率 ,  *主鎖 ,  斜入射小角X線散乱
準シソーラス用語： GISAXS

分類 (1件)： 高分子固体の物性一般  (CG02021V)

タイトルに関連する用語 (4件)： スルホン化 ,  ポリイミド薄膜 ,  主鎖 ,  プロトン伝導