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J-GLOBAL ID：201802273912458021   整理番号：18A1138406

CF_4プラズマエッチングにより作製したナノ構造の超疎水性および反射防止表面【JST・京大機械翻訳】

Superhydrophobic and antireflective surface of nanostructures fabricated by CF₄ plasma etching

著者 (5件)： Somrang W. (Department of Physics, King Mongkut’s University of Technology Thonburi,126 Pracha Uthit Rd., Thung Khru, Bangkok 10140, Thailand) ,  Denchitcharoen S. (Department of Physics, King Mongkut’s University of Technology Thonburi,126 Pracha Uthit Rd., Thung Khru, Bangkok 10140, Thailand) ,  Eiamchai P. (Optical Thin-Film Laboratory, National Electronics and Computer Technology Center, 112 Thailand Science Park,Phahonyothin Rd., Klong 1, Klong Luang, Pathumthani 12120, Thailand) ,  Horprathum M. (Optical Thin-Film Laboratory, National Electronics and Computer Technology Center, 112 Thailand Science Park,Phahonyothin Rd., Klong 1, Klong Luang, Pathumthani 12120, Thailand) ,  Chananonnawathorn C. (Optical Thin-Film Laboratory, National Electronics and Computer Technology Center, 112 Thailand Science Park,Phahonyothin Rd., Klong 1, Klong Luang, Pathumthani 12120, Thailand)
資料名： Materials Today: Proceedings  (Materials Today: Proceedings)
巻： 5  号： 6 P1  ページ： 13879-13885  発行年： 2018年 
JST資料番号： W3531A  ISSN： 2214-7853  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究では,SiO_2ベース基板上のCF_4プラズマエッチングプロセスによりナノ構造パターンを作製し,超疎水性と反射防止のためにテフロン被覆で処理した。最初に,ニッケル薄膜を種々の蒸着時間でPVDスパッタリングにより基板上に堆積した。作製した薄膜は500°Cで急速熱アニーリングを行い,エッチ抵抗マスクとして作用するニッケルナノ粒子パターンの凝集を促進した。これらのパターン化した基板はCF_4プラズマによりエッチングされた。エッチング処理後,ニッケルマスクを硝酸リンスにより除去した。続いて,超疎水性特性を達成するために,ポリテトラフルオロエチレン膜をナノ構造表面上に被覆した。試料を電界放出型走査電子顕微鏡(FESEM),UV-Vis-NIR分光法,及び接触角測定により特性化し,各試料条件に対する物理的形態,光透過スペクトル,及び水の濡れ性を研究した。結果は,エッチング表面の粗さが超疎水性特性の変化と反射防止表面に大きく影響することを示した。開発したナノ構造パターンは,オプトエレクトロニクスおよび太陽エネルギー材料におけるいくつかの応用に対して高い可能性を有していた。Copyright 2018 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 蒸着 ,  薄膜 ,  硝酸 ,  パターン形成 ,  *プラズマ ,  被覆 ,  *プラズマエッチング ,  *ナノ構造 ,  *エッチング ,  キャラクタリゼーション ,  オプトエレクトロニクス ,  ニッケル ,  接触角
準シソーラス用語： *反射防止 ,  *超疎水性 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： プラズマエッチング ,  超疎水 ,  反射防止 ,  水接触角

分類 (3件)： 固-液界面  (CB12050B) ,  有機化合物の薄膜  (BK14070L) ,  表面処理  (YH04112X)

タイトルに関連する用語 (5件)： プラズマエッチング ,  作製 ,  ナノ構造 ,  疎水性 ,  反射防止