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J-GLOBAL ID：201802274539277736   整理番号：18A1234260

ファンデルワールス相互作用によって形成される多孔性の自己集合膜をテンプレートに用いたグラファイト表面の周期的化学修飾

著者 (9件)： 久保有輝 (大阪大 大学院) ,  田原一邦 (大阪大 大学院) ,  田原一邦 (明治大 理工) ,  田原一邦 (JST-さきがけ) ,  HIRSCH Brandon E. (ルーバン大) ,  廣瀬敬治 (大阪大 大学院) ,  DE FEYTER Steven (ルーバン大) ,  戸部義人 (大阪大 大学院) ,  戸部義人 (大阪大 産科研)
資料名： 日本化学会春季年会講演予稿集(CD-ROM)
巻： 98th  ページ： ROMBUNNO.2F5-29  発行年： 2018年03月06日 
JST資料番号： S0493B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 電気化学的に発生したアリールラジカルのグラファイト表面への付加反応は,高反応性のため,付加位置の制御は困難とされている。我々は,六つのアルキル鎖を有するデヒドロベンゾ[12]アヌレンがファンデルワールス相互作用を駆動力として形成する多孔性のハニカム型配列をテンプレートとして利用し,アリールラジカルの付加位置制御を行った。走査型トンネル顕微鏡観察の結果,アリールラジカルの周期的な付加を見出したので報告する。(著者抄録)

シソーラス用語： 化学修飾 ,  周期 ,  表面改質 ,  自己集合 ,  *グラファイト ,  アリールラジカル ,  走査型トンネル顕微鏡 ,  鋳型反応 ,  アンヌレン ,  *付加反応 ,  van der Waals力 ,  ハニカム構造
準シソーラス用語： テンプレート反応 ,  ファンデルワールス相互作用 ,  周期的化学修飾 ,  走査トンネル顕微鏡 ,  表面修飾

分類 (2件)： 炭素とその化合物  (YB02060D) ,  付加反応,脱離反応  (CF02030M)

物質索引 (3件)： 2,3,8,9,14,15-ヘキサキス(オクチルオキシ)-5,6,11,12,17,18-ヘキサデヒドロトリベンゾ[a,e,i]シクロドデセン ,  2,3,8,9,14,15-ヘキサキス(ヘキシルオキシ)-5,6,11,12,17,18-ヘキサデヒドロトリベンゾ[a,e,i]シクロドデセン ,  2,3,8,9,14,15-ヘキサブトキシ-5,6,11,12,17,18-ヘキサデヒドロトリベンゾ[a,e,i]シクロドデセン

タイトルに関連する用語 (6件)： ファンデルワールス相互作用 ,  多孔性 ,  自己集合 ,  テンプレート ,  グラファイト ,  化学修飾