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J-GLOBAL ID：201802279667485729   整理番号：18A1805806

相互相関とパワースペクトル密度法に基づくパターン品質と欠陥評価【JST・京大機械翻訳】

Pattern quality and defect evaluation based on cross correlation and power spectral density methods

著者 (8件)： Zhang Libin (Institute of Microelectronics of Chinese Academy of Sciences, Integrated Circuit Advanced Process Center, No. 3 Bei-Tu-Cheng West Road, Beijing 100029, China) ,  Ma Le (Institute of Microelectronics of Chinese Academy of Sciences, Integrated Circuit Advanced Process Center, No. 3 Bei-Tu-Cheng West Road, Beijing 100029, China) ,  Chen Rui (Institute of Microelectronics of Chinese Academy of Sciences, Integrated Circuit Advanced Process Center, No. 3 Bei-Tu-Cheng West Road, Beijing 100029, China) ,  He Jianfang (Institute of Microelectronics of Chinese Academy of Sciences, Integrated Circuit Advanced Process Center, No. 3 Bei-Tu-Cheng West Road, Beijing 100029, China) ,  Su Xiaojing (Institute of Microelectronics of Chinese Academy of Sciences, Integrated Circuit Advanced Process Center, No. 3 Bei-Tu-Cheng West Road, Beijing 100029, China) ,  Dong Lisong (Institute of Microelectronics of Chinese Academy of Sciences, Integrated Circuit Advanced Process Center, No. 3 Bei-Tu-Cheng West Road, Beijing 100029, China) ,  Su Yajuan (Institute of Microelectronics of Chinese Academy of Sciences, Integrated Circuit Advanced Process Center, No. 3 Bei-Tu-Cheng West Road, Beijing 100029, China) ,  Wei Yayi (Institute of Microelectronics of Chinese Academy of Sciences, Integrated Circuit Advanced Process Center, No. 3 Bei-Tu-Cheng West Road, Beijing 100029, China)
資料名： Journal of Vacuum Science & Technology. B. Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena  (Journal of Vacuum Science & Technology. B. Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena)
巻： 36  号： 5  ページ： 052902-052902-6  発行年： 2018年 
JST資料番号： E0974A  ISSN： 2166-2746  CODEN： JVTBD9  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： SEM画像におけるナノメートルスケールパターンのエッジ位置の正確な検出は次世代パターン形成技術開発のために挑戦的である。ここでは,二つの異なるエッジ検出法を提案した。一つはエッジしきい値アルゴリズムを用いた通常の方法に基づいており,他は参照による実画像の計算による相互相関法に基づいている。ライン/スペースと円形パターンタイプは,両方とも研究して,2つの方法と比較した。雑音のない異なるSEM画像と雑音を用いて,上述の二つの方法の長所と短所を要約した。パワースペクトル密度法の実装により,相互相関法がエッジ位置とエッジ粗さの計測不確実性を抑制することを示した。また,相互相関法は,すべての潜在的エッジ欠陥,特にフーチング欠陥とトップ損失欠陥を計算する。この方法は,異なる参照波を用いることによって,3D再構成プロセスにおいて高い応用可能性を有した。これに加えて,粗さFEMや欠陥FEMのような新しい焦点エネルギー行列(FEM)計測を可能にした。Copyright 2018 AIP Publishing LLC All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *品質 ,  画像 ,  *パワースペクトル密度 ,  エッジ検出 ,  パターン形成 ,  雑音 ,  アルゴリズム ,  表面粗さ ,  不確実性
準シソーラス用語： 3D画像再構成 ,  SEM画像 ,  *相互相関 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (4件)： 相互相関 ,  パワースペクトル密度 ,  欠陥 ,  評価