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J-GLOBAL ID：201802285704946983   整理番号：18A1913141

電子線を用いたEUVレジスト感度予測法の研究

著者 (2件)： 保坂勇志 (量研) ,  大山智子 (量研)
資料名： 放射線化学討論会講演要旨集  (Program and Abstract. Annual Meetings of the Japanese Society of Radiation Chemistry)
巻： 61st  ページ： 53-54  発行年： 2018年09月25日 
JST資料番号： L0690A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： 電子照射 ,  *フォトレジスト ,  *予測 ,  *感度 ,  フォトリソグラフィー ,  パターン形成 ,  露光 ,  吸収線量 ,  電子散乱 ,  *電子ビーム ,  *EUVレジスト
準シソーラス用語： EUVリソグラフィー ,  ナノパターニング

分類 (2件)： 電子ビーム・イオンビームの応用  (BD02070X) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (5件)： 電子線 ,  EUVレジスト ,  感度 ,  予測法 ,  研究