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J-GLOBAL ID:201802289923085709   整理番号:18A0910737

フルオロカーボンガスを用いないシリコンエッチング用大気圧プラズマジェットシステム

Atmospheric-pressure plasma jet system for silicon etching without fluorocarbon gas feed
著者 (2件):
資料名:
巻: 57  号: 1S  ページ: 01AB01.1-01AB01.4  発行年: 2018年01月 
JST資料番号: G0520B  ISSN: 0021-4922  CODEN: JJAPB6  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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分類 (2件):
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大気・天体プラズマ  ,  固体デバイス製造技術一般 
タイトルに関連する用語 (2件):
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