文献

J-GLOBAL ID：201802289923085709   整理番号：18A0910737

フルオロカーボンガスを用いないシリコンエッチング用大気圧プラズマジェットシステム

Atmospheric-pressure plasma jet system for silicon etching without fluorocarbon gas feed

著者 (2件)： OHTSU Yasunori (Saga Univ., Saga, JPN) ,  NAGAMATSU Kenta (Saga Univ., Saga, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics  (Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 57  号： 1S  ページ： 01AB01.1-01AB01.4  発行年： 2018年01月 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  CODEN： JJAPB6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： *脂肪族フッ素化合物 ,  *ケイ素 ,  *プラズマエッチング ,  *プラズマジェット ,  原子間力顕微鏡 ,  無声放電 ,  誘導結合プラズマ ,  プラズマ ,  表面構造 ,  *大気圧プラズマジェット ,  容量結合プラズマ ,  表面形態 ,  構造
準シソーラス用語： *フルオロカーボン ,  DBD【放電】 ,  ICP ,  CCP【プラズマ】 ,  表面モルフォロジー

分類 (2件)： 大気・天体プラズマ  (BJ02020M) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (2件)： シリコンエッチング ,  大気圧プラズマジェット