プラズマ増強原子層堆積により合成した二酸化チタンの膜特性に及ぼすイオンエネルギーの影響【JST・京大機械翻訳】

Iwashita Shinya; Moriya Tsuyoshi; Kikuchi Takamichi; Kagaya Munehito; Noro Naotaka; Hasegawa Toshio; Uedono Akira

文献

J-GLOBAL ID：201802290347562479 整理番号：18A1008184

プラズマ増強原子層堆積により合成した二酸化チタンの膜特性に及ぼすイオンエネルギーの影響【JST・京大機械翻訳】

Effect of ion energies on the film properties of titanium dioxides synthesized via plasma enhanced atomic layer deposition

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資料名：
巻： 36 号： 2 ページ： 021515-021515-8 発行年： 2018年
JST資料番号： C0789B ISSN： 0734-2101 CODEN： JVTAD6 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

二酸化チタン(TiO_2)膜を合成するためのプラズマ増強原子層蒸着プロセスを,放電のイオンエネルギーを調整することにより膜特性を修飾することを可能にするために行った。100°Cの低温でアルゴン/酸素混合物中の典型的な容量結合無線周波数(CCRF)放電における四塩化チタンの酸化により膜を堆積し,非晶質となる全ての膜を得た。CCRF放電における下部電極(ウエハ表面)上のイオンヒットのエネルギー分布を,薄膜特性の制御を目的として,下部電極のインピーダンスを調整することにより変化させた。TiO_2膜の湿式エッチング速度は,平均イオンエネルギー,<ε_i>,すなわち,より高い<ε_i>による明確な相関を示し,湿潤エッチング速度のより高い値を実現した。膜特性の変化はイオン衝撃と酸化の間のバランスの変化によって説明される。前者は<ε_i>により大きく影響されるが,後者は主に無線周波数(RF)パワーにより決定される。高い<ε_i>条件では,高エネルギーイオンの衝撃が顕著であり,膜中に微細孔が形成され,陽電子消滅分光法のような物理的解析により確認された。本研究では,RFパワーに対するCCRF放電の依存性と膜特性についても議論した。(翻訳著者抄録)【JST・京大機械翻訳】

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半導体薄膜 , その他の無機化合物の薄膜

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