Iwashita Shinya について
TFF Development Business Division, Tokyo Electron Technology Solutions Ltd., 407-0192 Nirasaki, Japan について
Moriya Tsuyoshi について
TFF Development Business Division, Tokyo Electron Technology Solutions Ltd., 407-0192 Nirasaki, Japan について
Kikuchi Takamichi について
TFF Development Business Division, Tokyo Electron Technology Solutions Ltd., 407-0192 Nirasaki, Japan について
Kagaya Munehito について
TFF Development Business Division, Tokyo Electron Technology Solutions Ltd., 407-0192 Nirasaki, Japan について
Noro Naotaka について
TFF Development Business Division, Tokyo Electron Technology Solutions Ltd., 407-0192 Nirasaki, Japan について
Hasegawa Toshio について
TFF Development Business Division, Tokyo Electron Technology Solutions Ltd., 407-0192 Nirasaki, Japan について
Uedono Akira について
Division of Applied Physics, Faculty of Pure and Applied Science, University of Tsukuba, 305-8573 Tsukuba, Japan について
Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films について
酸素 について
ウェットエッチング について
薄膜 について
インピーダンス について
湿潤 について
低温 について
プラズマ について
放電 について
非晶質 について
衝撃 について
アルゴン について
エッチング速度 について
無線周波数 について
イオンエネルギー について
二酸化チタン について
半導体薄膜 について
その他の無機化合物の薄膜 について
プラズマ について
増強 について
原子層堆積 について
二酸化チタン について
膜特性 について
イオンエネルギー について