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J-GLOBAL ID：201802291227988763   整理番号：18A1212603

SiCl4-BCl3-NH3-H2-Ar環境におけるSiBN堆積速度に及ぼすSiCl4流速の影響【JST・京大機械翻訳】

Effect of the SiCl4 Flow Rate on SiBN Deposition Kinetics in SiCl4-BCl3-NH3-H2-Ar Environment

著者 (7件)： Li Jianping (Science and Technology on Thermostructural Composite Materials Laboratory, Northwestern Polytechnical University, Xi’an 710072, Shaanxi, China) ,  Qin Hailong (Science and Technology on Thermostructural Composite Materials Laboratory, Northwestern Polytechnical University, Xi’an 710072, Shaanxi, China) ,  Liu Yongsheng (Science and Technology on Thermostructural Composite Materials Laboratory, Northwestern Polytechnical University, Xi’an 710072, Shaanxi, China) ,  Ye Fang (Science and Technology on Thermostructural Composite Materials Laboratory, Northwestern Polytechnical University, Xi’an 710072, Shaanxi, China) ,  Li Zan (Science and Technology on Thermostructural Composite Materials Laboratory, Northwestern Polytechnical University, Xi’an 710072, Shaanxi, China) ,  Cheng Laifei (Science and Technology on Thermostructural Composite Materials Laboratory, Northwestern Polytechnical University, Xi’an 710072, Shaanxi, China) ,  Zhang Litong (Science and Technology on Thermostructural Composite Materials Laboratory, Northwestern Polytechnical University, Xi’an 710072, Shaanxi, China)
資料名： Materials (Web)  (Materials (Web))
巻： 10  号： 6  ページ： 627  発行年： 2017年 
JST資料番号： U7237A  ISSN： 1996-1944  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： スイス (CHE)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： SiBN中間相を有するSiCf/SiCまたはC/SiC複合材料の熱的および機械的安定性を改善するために,SiCl4-BCl3-NH3-H2-Arガスシステムを用いて,SiBN被覆を低圧化学蒸着(LPCVD)によって蒸着した。堆積速度に及ぼすSiCl4流量の影響を調べた。結果は,堆積速度が最初に増加し,次にSiCl4流量の増加とともに減少することを示した。皮膜の表面は,10mL/分と20mL/分のSiCl4流量で均一なカリフラワー状構造である。流速が30mL/分のとき,表面は小さな球状粒子で覆われている。種々のSiCl4流量で蒸着した皮膜はすべてX線非晶質で,Si,B,N,O元素を含んでいた。主な結合状態はB-N,Si-N,及びN-Oである。B元素とB-N結合はSiCl4流量の増加とともに減少したが,Si元素とSi-N結合は増加した。主な堆積機構は,BCl3+NH3とSiCl4+NH3の2つの平行反応を示す。堆積過程は主にBCl3+NH3の反応によって制御される。Copyright 2018 The Author(s) All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 複合材料 ,  流量 ,  並発反応 ,  *堆積速度 ,  非晶質 ,  *アンモニア ,  中間相 ,  LPCVD ,  皮膜 ,  *流速 ,  *ケイ素 ,  X線 ,  被覆 ,  *炭化ケイ素
準シソーラス用語： 球状粒子 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： SiBNコーティング ,  低圧化学蒸着 ,  SiCl_4フロー ,  堆積機構

分類 (1件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A)

引用文献 (14件)：

• Naslain, R. Design, preparation and properties of non-oxide cmcs for application in engines and nuclear reactors: An overview. Compos. Sci. Technol. 2004, 64, 155-170.
• Rosso, M. Ceramic and metal matrix composites: Routes and properties. J. Mater. Process. Technol. 2006, 175, 364-375.
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• Morscher, G.N. Tensile stress rupture of sicf/sicm minicomposites with carbon and boron nitride interphases at elevated temperatures in air. J. Am. Ceram. Soc. 1997, 80, 2029-2042.
• Dugne, O.; Prouhet, S.; Guette, A.; Naslain, R.; Fourmeaux, R.; Khin, Y.; Sevely, J.; Rocher, J.P.; Cotteret, J. Interface characterization by tem, aes and sims in tough SiC (ex-PCS) fibre-SiC (CVI) matrix composites with a bn interphase. J. Mater. Sci. 1993, 28, 3409-3422.

タイトルに関連する用語 (7件)： SiCl4 ,  NH3 ,  H2 ,  Ar ,  環境 ,  堆積速度 ,  流速