基板処理装置およびノズル洗浄方法

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：特許業務法人あい特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-166951
公開番号（公開出願番号）：特開2018-037448
出願日： 2016年08月29日
公開日（公表日）： 2018年03月08日
要約：

【課題】基板の上面に向けて液体を吐出する上面ノズルの内部および外周面の両方を確実に洗浄する。【解決手段】基板処理装置の制御装置は、スピンチャック4が基板を保持していないときに、下面ノズル21に洗浄液を吐出させることにより、下面ノズル21から上方に延びる液柱を形成する液柱形成工程と、液柱形成工程と並行して、上面ノズル34Aの垂下部38が液柱に接触しない第1位置と、上面ノズル34Aの垂下部38が液柱に接触しない第2位置と、の間で上面ノズル34Aを水平に往復させることにより、平面視で上面ノズル34Aの上吐出口35が液柱に重なる第1中間位置を上面ノズル34Aに通過させる第1垂下部洗浄工程とを実行する。【選択図】図9

請求項（抜粋）：

基板保持位置に配置された基板を水平に保持しながら回転させる基板保持手段と、前記基板保持位置に向けて液体を上方に吐出する、第1洗浄ノズルとしての下面ノズルと、洗浄液を前記下面ノズルに供給することにより、前記下面ノズルに洗浄液を吐出させる第1洗浄液供給手段と、水平に延びる水平部と、前記水平部の先端から下方に曲がったコーナー部と、前記コーナー部から下方に延びる垂下部と、前記垂下部の下面で開口する上吐出口とを含み、前記基板保持位置に向けて前記上吐出口から下方に液体を吐出する上面ノズルと、少なくとも水平方向に前記上面ノズルを移動させるノズル移動手段と、前記第1洗浄液供給手段およびノズル移動手段を制御する制御装置とを備え、前記制御装置は、前記基板保持手段が基板を保持していないときに、前記下面ノズルに洗浄液を吐出させることにより、前記下面ノズルから上方に延びる液柱を形成する液柱形成工程と、前記液柱形成工程と並行して、前記上面ノズルの垂下部が前記液柱に接触しない第1位置と、前記上面ノズルの垂下部が前記液柱に接触しない第2位置と、の間で前記上面ノズルを水平に往復させることにより、平面視で前記上面ノズルの上吐出口が前記液柱に重なる第1中間位置を前記上面ノズルに通過させる第1垂下部洗浄工程とを実行する、基板処理装置。

IPC (1件)：

H01L 21/304

FI (3件)：

H01L21/304 643Z , H01L21/304 643A , H01L21/304 648G

Fターム (23件)：

5F157AA17 , 5F157AB02 , 5F157AB14 , 5F157AB33 , 5F157AB75 , 5F157AB90 , 5F157BB23 , 5F157BB24 , 5F157BB32 , 5F157BB33 , 5F157BB39 , 5F157BB44 , 5F157BB52 , 5F157BC01 , 5F157BC53 , 5F157CB03 , 5F157CB13 , 5F157CB15 , 5F157CC01 , 5F157CE08 , 5F157CE25 , 5F157DB02 , 5F157DC90

引用特許：

審査官引用 (6件)

基板処理装置および基板処理方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2005-313783 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
洗浄処理装置および洗浄処理方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2011-158697 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
ヒータ洗浄方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2012-068082 出願人：大日本スクリーン製造株式会社

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