特許
J-GLOBAL ID：201803000360328126

プラズマ成膜装置および基板載置台

発明者：
今中 雅士

今中 雅士 について

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中西 敏雄

中西 敏雄 について

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本多 稔

本多 稔 について

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小谷 光司

小谷 光司 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 高山 宏志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-125141
公開番号（公開出願番号）：特開2017-228708
出願日： 2016年06月24日
公開日（公表日）： 2017年12月28日
要約：
【課題】所望の膜厚均一性を有する膜を得ることができるプラズマ成膜装置およびそれに用いる基板載置台を提供する。【解決手段】基板が収容されるチャンバー1と、チャンバー1内で基板Wが載置される基板載置台2と、チャンバー内に成膜ガスを含むガスを供給するガス供給機構16と、チャンバー1内を排気する排気機構24と、チャンバー1内にプラズマを生成させるプラズマ生成機構とを有するプラズマ成膜装置100において、基板載置台2は、基板Wより小径で、かつ載置面を有する載置台本体201と、載置台本体201の外側に配置される環状をなす調整部材202とを有する。調整部材202は、交換可能に設けられ、かつ、基板Wの外側の位置に種々の段差を有する複数のものが用意され、これらの中からプラズマ処理の処理条件に応じて選択されたものが用いられる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
基板が収容されるチャンバーと、 前記チャンバー内で基板が載置される基板載置台と、 前記チャンバー内に成膜ガスを含むガスを供給するガス供給機構と、 前記チャンバー内を排気する排気機構と、 前記チャンバー内にプラズマを生成させるプラズマ生成手段と を有し、 前記プラズマ生成手段により、生成されたプラズマにより前記成膜ガスを励起させて前記基板上に所定の膜を成膜するプラズマ成膜装置であって、 前記基板載置台は、前記基板より小径で、かつ載置面を有する載置台本体と、前記載置台本体の外側に配置される環状をなす調整部材とを有し、 前記調整部材は交換可能に設けられ、かつ前記調整部材として、基板の外側の位置に種々の段差を有する複数のものが用意され、これらの中からプラズマ処理の処理条件に応じて選択されたものが用いられることを特徴とするプラズマ成膜装置。
IPC (6件)：
H01L 21/31 ,  H01L 21/318 ,  C23C 16/511 ,  C23C 16/458 ,  C23C 16/50 ,  C23C 16/42
FI (6件)：
H01L21/31 C ,  H01L21/318 B ,  C23C16/511 ,  C23C16/458 ,  C23C16/50 ,  C23C16/42
Fターム (38件)：
4K030AA06 ,  4K030AA16 ,  4K030AA18 ,  4K030BA40 ,  4K030CA04 ,  4K030CA12 ,  4K030FA01 ,  4K030GA02 ,  4K030JA10 ,  4K030LA02 ,  4K030LA15 ,  5F045AA09 ,  5F045AB33 ,  5F045AC00 ,  5F045AC01 ,  5F045AC12 ,  5F045AC15 ,  5F045AC16 ,  5F045AC17 ,  5F045AD06 ,  5F045AD07 ,  5F045AD08 ,  5F045AD09 ,  5F045AE17 ,  5F045AE19 ,  5F045AF03 ,  5F045BB02 ,  5F045DP02 ,  5F045DQ10 ,  5F045EH03 ,  5F045EK07 ,  5F045EM02 ,  5F058BA06 ,  5F058BC08 ,  5F058BF08 ,  5F058BF23 ,  5F058BF30 ,  5F058BG04
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (2件)

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