振動装置を有するターゲットアセンブリおよび同位体生成システム

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (6件)：荒川聡志 , 小倉博 , 黒川俊久 , 田中拓人 , 小島猛 , 澤木亮一
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2017-567352
公開番号（公開出願番号）：特表2018-519517
出願日： 2016年05月10日
公開日（公表日）： 2018年07月19日
要約：

ターゲットアセンブリは、生成チャンバと、生成チャンバに隣接するビームキャビティとを有するターゲット本体を含む。生成チャンバは、ターゲット液体を保持するように構成される。ビームキャビティは、ターゲット本体の外部へと開口し、生成チャンバに入射する粒子ビームを受け入れるように構成される。さらに、ターゲットアセンブリは、ターゲット本体に固定された振動装置を含む。振動装置は、生成チャンバ内で経験される振動を引き起こすように構成される。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

同位体生成システム(100)のためのターゲットアセンブリ(200、400)であって、生成チャンバ(218、404)と、前記生成チャンバ(218、404)に隣接するビームキャビティ(406)と、を有するターゲット本体(201、402)であって、前記生成チャンバ(218、404)は、ターゲット液体を保持するように構成され、前記ビームキャビティ(406)は、該ターゲット本体(201、402)の外部へと開いており、前記生成チャンバ(218、404)に入射する粒子ビームを受け入れるように構成されている、ターゲット本体(201、402)と、前記ターゲット本体(201、402)に固定され、前記生成チャンバ(218、404)内で経験される振動を引き起こすように構成された振動装置(225、422)とを備えるターゲットアセンブリ(200、400)。

IPC (2件)：

G21K 5/08 , G21G 1/10

FI (4件)：

G21K5/08 B , G21G1/10 , G21K5/08 R , G21K5/08 C

引用特許：

審査官引用 (6件)

特開昭61-246699
X線発生装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-210778 出願人：株式会社島津製作所
放射性同位元素製造用ターゲット
公報種別：公開公報出願番号：特願2004-324197 出願人：住友重機械工業株式会社

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