湿式処理方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (7件)：千葉剛宏 , 宮寺利幸 , 千馬隆之 , 大内秀治 , 仲宗根康晴 , 坂井志郎 , 関口亨祐
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-022756
公開番号（公開出願番号）：特開2018-101798
出願日： 2018年02月13日
公開日（公表日）： 2018年06月28日
要約：

【解決手段】可撓性の長尺の基板Pを長尺方向に搬送しながら、基板Pの表面を液体LQ2によって処理する湿式処理方法は、基板Pの長尺方向に沿った所定の長さに渡って基板Pの表面と所定の隙間WS7で対向した内面CU7を有する液体保持機構90によって、所定の隙間WS7内に基板Pの表面を化学的に処理する為の処理液を満たした状態で、基板Pを長尺方向に搬送する工程と、基板Pの表面の化学的な反応を誘導または促進する特定波長の光エネルギーを、液体保持機構90の内面CU7側から処理液の層を介して基板Pの表面に照射する工程と、を含む。【選択図】図3

請求項（抜粋）：

可撓性の長尺のシート基板を長尺方向に搬送しながら、前記シート基板の表面を液体によって処理する湿式処理方法であって、前記シート基板の長尺方向に沿った所定の長さに渡って前記シート基板の表面と所定の隙間で対向した内面を有する液体保持機構によって、前記所定の隙間内に前記シート基板の表面を化学的に処理する為の処理液を満たした状態で、前記シート基板を長尺方向に搬送する工程と、前記シート基板の表面の化学的な反応を誘導または促進する特定波長の光エネルギーを、前記液体保持機構の前記内面側から前記処理液の層を介して前記シート基板の表面に照射する工程と、を含む、湿式処理方法。

IPC (4件)：

H01L 21/027 , C23C 18/20 , C23C 18/30 , B08B 3/04

FI (5件)：

H01L21/30 569D , H01L21/30 569Z , C23C18/20 A , C23C18/30 , B08B3/04 B

Fターム (28件)：

3B201AA08 , 3B201AB05 , 3B201BB01 , 3B201BC01 , 3B201CC11 , 3B201CC12 , 4K022AA13 , 4K022CA06 , 4K022CA07 , 4K022DA01 , 5E343AA03 , 5E343AA12 , 5E343AA18 , 5E343AA22 , 5E343AA26 , 5E343AA33 , 5E343BB24 , 5E343BB28 , 5E343CC62 , 5E343DD23 , 5E343DD33 , 5E343EE01 , 5E343EE32 , 5E343EE37 , 5E343FF16 , 5F146LA11 , 5F146LA13 , 5F146LA14

引用特許：

審査官引用 (16件)

紫外線洗浄方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-098687 出願人：株式会社オーク製作所
電子部品の洗浄方法及び洗浄装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2004-185764 出願人：シャープ株式会社
光析出による金メッキ法及び金メッキ膜形成装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2004-210430 出願人：市村正也, 増井寛二, 株式会社東海理化電機製作所

全件表示

前のページに戻る