特許

J-GLOBAL ID：201803001315845418

光両性物質発生剤

発明者： 高原 茂
出願人/特許権者： 国立大学法人 千葉大学
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-123089
公開番号（公開出願番号）：特開2017-226744
出願日： 2016年06月21日
公開日（公表日）： 2017年12月28日
要約：

【課題】酸拡散を抑制し、より高精細なレジストを行うことのできる光両性物質発生剤及びこれを用いたレジスト方法を提供する。【解決手段】本発明の一観点に係る光両性物質発生剤は、アダマンタン構造を有するものである。また、本観点において、アダマンタン構造に付されたアミノ基を有すること、更には、トリフェニルスルホニウム塩であることが好ましい。本観点に係る光両性物質発生剤によって、より高精細なレジストを行うことが可能となるといった効果がある。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

アダマンタン構造を有する光両性物質発生剤。

IPC (3件)：

C09K 3/00 ,  C07C 381/12 ,  C07C 309/26

FI (3件)：

C09K3/00 K ,  C07C381/12 ,  C07C309/26

Fターム (2件)：

4H006AA03 ,  4H006AB99

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 感放射線性樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-148742   出願人：日本合成ゴム株式会社
• 光両性物質発生剤
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2012-052227   出願人：国立大学法人千葉大学
• 塩及びレジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2010-242476   出願人：住友化学株式会社