特許
J-GLOBAL ID：201803002015434820
レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
新樹グローバル・アイピー特許業務法人
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-217570
公開番号（公開出願番号）：特開2014-112210
特許番号：特許第6310673号
出願日： 2013年10月18日
公開日（公表日）： 2014年06月19日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 式(I)で表される構造単位及び式(a4)で表される構造単位を有し、かつ、酸不安定基を有さない樹脂、
式(a1-1)で表される構造単位と、式(a1-0)で表される構造単位、式(a1-2)で表される構造単位及び式(a1-5)で表される構造単位からなる群から選ばれる少なくとも一種との少なくとも2種の酸不安定基を有する樹脂、並びに、
式(II)で表される酸発生剤を含有する有機溶剤で現像するためのレジスト組成物。
[式(I)中、
R1は、水素原子又はメチル基を表す。
R2は、炭素数3〜18の脂環式炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基に含まれる水素原子は炭素数1〜8の脂肪族炭化水素基又はヒドロキシ基で置換されていてもよい。但し、L1との結合位置にある炭素原子に結合する水素原子は、炭素数1〜8の脂肪族炭化水素基で置換されない。
L1は、単結合又は炭素数1〜18の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれるメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよい。]
[式(a4)中、
R3は、水素原子又はメチル基を表す。
R4は、炭素数1〜20のフッ素原子を有する飽和炭化水素基を表す。]
[式(II)中、
Rb1及びRb2は、互いに独立に、フッ素原子又は炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基を表す。
Lb1は、炭素数1〜17の2価の飽和炭化水素基を表し、該2価の飽和炭化水素基に含まれるメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよい。
環Wb1は、炭素数2〜36の複素環を表す。
Rb3は、水素原子又は炭素数1〜12の炭化水素基を表し、該炭化水素基に含まれるメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよい。
Rb4は、炭素数1〜6の炭化水素基を表し、該炭化水素基に含まれるメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよい。
mは、0〜6の整数を表す。mが2以上の場合、複数のRb4は同一又は相異なる。
Z1+は、有機カチオンを表す。]
[式(a1-1)及び式(a1-2)中、
La1及びLa2は、それぞれ独立に、-O-又は*-O-(CH2)k1-CO-O-を表し、k1は1〜7の整数を表し、*は-CO-との結合手を表す。
Ra4及びRa5は、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表す。
Ra6及びRa7は、それぞれ独立に、炭素数1〜8のアルキル基、炭素数3〜18の脂環式炭化水素基又はこれらを組合わせた基を表す。
m1は0〜14の整数を表す。
n1は0〜10の整数を表す。
n1'は0〜3の整数を表す。]
[式(a1-0)中、
La01は、酸素原子又は*-O-(CH2)k01-CO-O-を表し、k01は1〜7の整数を表し、*はカルボニル基との結合手を表す。
Ra01は、水素原子又はメチル基を表す。
Ra02、Ra03及びRa04は、それぞれ独立に、炭素数1〜8のアルキル基、炭素数3〜18の脂環式炭化水素基又はこれらを組合わせた基を表す。]
[式(a1-5)中、
Ra11は、ハロゲン原子を有してもよい炭素数1〜6のアルキル基、水素原子又はハロゲン原子を表す。
Za11は、単結合又は*-[CH2]k1'-CO-La14-を表す。ここで、k1'は1〜4の整数を表す。*は、La11との結合手を表す。
La11、La12、La13及びLa14は、それぞれ独立に、酸素原子又は硫黄原子を表す。
s1は、1〜3の整数を表す。
s1'は、0〜3の整数を表す。]
IPC (7件)：
G03F 7/038 ( 200 6.01)
, G03F 7/32 ( 200 6.01)
, G03F 7/004 ( 200 6.01)
, G03F 7/039 ( 200 6.01)
, H01L 21/027 ( 200 6.01)
, C08F 220/12 ( 200 6.01)
, C08F 220/22 ( 200 6.01)
G03F 7/038 601
, G03F 7/32
, G03F 7/004 503 A
, G03F 7/039 601
, H01L 21/30 569 E
, C08F 220/12
, C08F 220/22
