特許

J-GLOBAL ID：201803002463528630

水素発生装置及び水素発生方法

発明者： 三澤 弘明 ,  上野 貢生 ,  ショウ ギョクケイ
出願人/特許権者： 国立大学法人北海道大学
代理人 (2件)： 長谷川 芳樹 ,  諏澤 勇司
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-042860
公開番号（公開出願番号）：特開2014-169210
特許番号：特許第6230039号
出願日： 2013年03月05日
公開日（公表日）： 2014年09月18日
請求項（抜粋）：

【請求項1】チタン酸ストロンチウム或いは酸化チタンである光触媒材料を含む基板と、 前記基板の一方の面に沿って複数領域に分離して配置され、プラズモン共鳴吸収性を有する金属体と、 前記基板の前記一方の面と反対側の他方の面に配置された水素発生触媒と、 前記基板を前記金属体と前記水素発生触媒とともに収容し、前記基板の両面に接触させた状態で水溶液を保持可能な容器と、 を備え、 前記容器は、内部を隔てる隔壁を有し、前記隔壁の中央に前記基板を保持し、 前記容器の内部において、前記隔壁を隔てた前記基板の前記一方の面側に前記一方の面に接触させるように第1の水溶液が保持され、 前記容器の内部において、前記隔壁を隔てた前記基板の前記他方の面側に前記他方の面に接触させるように第2の水溶液が保持される、 ことを特徴とする水素発生装置。

IPC (3件)：

C01B 3/04 ( 200 6.01) ,  B01J 35/02 ( 200 6.01) ,  B01J 23/68 ( 200 6.01)

FI (3件)：

C01B 3/04 A ,  B01J 35/02 J ,  B01J 23/68 M

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 水光分解用のモノリス触媒システム
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2010-530362   出願人：ツェーエフエスオー・ゲーエムベーハー
• 水素製造装置および水素製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2009-274566   出願人：シャープ株式会社
• 可視光活性光触媒
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-064162   出願人：本多崇
• チタン酸ストロンチウム焼結体及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2009-168400   出願人：国立大学法人名古屋大学