特許
J-GLOBAL ID：201803004546175694

回転照射装置、回転照射方法、及び回転照射治療装置

発明者：
野中 智幸

野中 智幸 について

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松田 晋弥

松田 晋弥 について

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折笠 朝文

折笠 朝文 について


出願人/特許権者：
株式会社東芝

株式会社東芝 について

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東芝エネルギーシステムズ株式会社

東芝エネルギーシステムズ株式会社 について


代理人 (1件)： 特許業務法人サクラ国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2017-048806
公開番号（公開出願番号）：特開2018-149179
出願日： 2017年03月14日
公開日（公表日）： 2018年09月27日
要約：
【課題】回転ガントリの回転に伴う超伝導電磁石内の構成部材のずれ、歪を防止可能な回転照射装置を提供する。【解決手段】本実施形態の回転照射装置は、回転ガントリ3に設置され、かつ荷電粒子ビームの軌道を偏向する偏向磁場と、荷電粒子ビームを収束する収束磁場の少なくとも一方を形成する超伝導電磁石5で荷電粒子ビームを照射対象に導く回転照射装置であって、超伝導電磁石5を励磁してから回転ガントリ3を回転させるように制御する制御装置を備える。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
回転ガントリに設置され、かつ荷電粒子ビームの軌道を偏向する偏向磁場と、前記荷電粒子ビームを収束する収束磁場の少なくとも一方を形成する超伝導電磁石で前記荷電粒子ビームを照射対象に導く回転照射装置であって、 前記超伝導電磁石を励磁してから前記回転ガントリを回転させるように制御する制御装置を備えることを特徴とする回転照射装置。
IPC (4件)：
A61N 5/01 ,  G21K 5/04 ,  G21K 1/093 ,  H05H 7/02
FI (5件)：
A61N5/01 A ,  G21K5/04 A ,  G21K1/093 D ,  G21K1/093 F ,  H05H7/02
Fターム (12件)：
2G085AA13 ,  2G085BA14 ,  2G085BA15 ,  2G085BC15 ,  2G085BC18 ,  2G085CA16 ,  2G085CA24 ,  2G085EA07 ,  4C082AA01 ,  4C082AC05 ,  4C082AE03 ,  4C082AG53
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (3件)

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