特許
J-GLOBAL ID：201803006236998529

プラズマ処理装置

発明者：
今野 洋生

今野 洋生 について

, 
下元 隆

下元 隆 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について

, 
株式会社ダイヘン

株式会社ダイヘン について


代理人 (2件)： 誠真IP特許業務法人 ,  佐々木 聖孝
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-229382
公開番号（公開出願番号）：特開2015-090759
特許番号：特許第6312405号
出願日： 2013年11月05日
公開日（公表日）： 2015年05月11日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 被処理体を出し入れ可能に収容する真空排気可能な処理容器内で処理ガスの高周波放電によるプラズマを生成し、前記プラズマの下で前記処理容器内の前記被処理体に所望の処理を施すプラズマ処理装置であって、 第1の高周波を出力する第1の高周波電源と、 前記第1の高周波電源より出力される前記第1の高周波を前記処理容器の中または周囲に配置される第1の電極まで伝送するための第1の高周波給電ラインと、 前記第1の高周波給電ライン上に設けられる可変リアクタンス素子と、前記第1の高周波給電ライン上で第1の高周波電源より見える負荷のインピーダンスを測定する第1のインピーダンスセンサとを有し、前記第1のインピーダンスセンサより出力される負荷インピーダンス測定値が前記第1の高周波電源の出力インピーダンスに対応する所定の整合ポイントに一致または近似するように前記可変リアクタンス素子のリアクタンスを可変に制御する第1の整合部と、 第2の高周波を出力する第2の高周波電源と、 前記第2の高周波電源より出力される前記第2の高周波を前記第1の電極または前記処理容器の中または周囲に配置される第2の電極まで伝送するための第2の高周波給電ラインと、 前記第2の高周波のパワーがオン状態または第1のレベルになるパルス・オン期間とオフ状態または前記第1のレベルよりも低い第2のレベルになるパルス・オフ期間とを一定の周波数で交互に繰り返すように、前記第2の高周波電源の出力をパルスで変調する高周波パワー変調部と を具備し、 前記第1のインピーダンスセンサが、前記パルス・オン期間における負荷インピーダンスの算術平均値または移動平均値と前記パルス・オフ期間における負荷インピーダンスの算術平均値または移動平均値とを前記パルスのデューティ比から独立した所望の重み変数K,1-K(ただし0≦K≦1)で加重平均して得られる加重平均値または加重移動平均値に対応した前記負荷インピーダンス測定値を出力する、 プラズマ処理装置。
IPC (3件)：
H05H 1/00 ( 200 6.01) ,  H01L 21/3065 ( 200 6.01) ,  H05H 1/46 ( 200 6.01)
FI (4件)：
H05H 1/00 A ,  H01L 21/302 101 B ,  H05H 1/46 R ,  H05H 1/46 M
引用特許：
審査官引用 (6件)
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