特許
J-GLOBAL ID：200903000208718423

プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法及びコンピュータ読み取り可能な記憶媒体

発明者：
輿水 地塩

輿水 地塩 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 佐々木 聖孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-089888
公開番号（公開出願番号）：特開2009-246091
出願日： 2008年03月31日
公開日（公表日）： 2009年10月22日
要約：
【課題】プラズマ処理に用いる高周波のパワーを周期的に変調する方式において、プラズマインピーダンスの変動や高周波電源への反射を可及的に少なくして、プロセスの安定性・再現性および高周波電源の安全保護を保証する。【解決手段】このプラズマ処理装置では、バイアス制御用高周波(LF)のパワーをプロセスに応じた特性てパルス変調するだけでなく、LFパワーのパルス変調に同期してその周波数(LF周波数)もパルス変調する。すなわち、LFパワーとLF周波数との間に、1サイクル内で、LFパワーがHレベルの設定値PAを維持する期間TAの間はLF周波数もHレベルの設定値FAを維持し、LFパワーがレベルの設定値PBを維持する期間TBの間はLF周波数もLレベルの設定値FBを維持するような同期関係を持たせる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
真空排気可能な処理容器と、 前記処理容器内で被処理基板を支持する第1電極と、 前記処理容器内で前記第1電極の上に設定された処理空間に処理ガスを供給する処理ガス供給部と、 前記処理容器内で前記処理ガスを励起してプラズマを生成するプラズマ励起部と、 前記プラズマからイオンを前記被処理基板に引き込むために前記第1電極に第1高周波を印加する第1高周波給電部と、 前記第1高周波のパワーを所定の周期で変調する第1高周波パワー変調部と、 前記第1高周波のパワー変調に実質的に同期して前記第1高周波の周波数を変調する第1周波数変調部と を有するプラズマ処理装置。
IPC (5件)：
H01L 21/306 ,  H01L 21/205 ,  C23C 16/509 ,  H05H 1/46 ,  H05H 1/00
FI (5件)：
H01L21/302 101B ,  H01L21/205 ,  C23C16/509 ,  H05H1/46 M ,  H05H1/00 A
Fターム (23件)：
4K030CA04 ,  4K030CA12 ,  4K030FA03 ,  4K030KA17 ,  4K030KA18 ,  4K030KA30 ,  4K030LA15 ,  5F004AA06 ,  5F004BA09 ,  5F004BB11 ,  5F004BB23 ,  5F004BD04 ,  5F004BD05 ,  5F004CA03 ,  5F004CB05 ,  5F004EB02 ,  5F045AA08 ,  5F045AA20 ,  5F045AB32 ,  5F045BB16 ,  5F045DP03 ,  5F045EH14 ,  5F045EH20
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (4件)
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