特許

J-GLOBAL ID：201803006488081555

リソグラフィー用重合体溶液の製造方法、レジスト組成物の製造方法、およびパターンが形成された基板の製造方法

発明者： 安田 敦 ,  押切 友也 ,  前田 晋一 ,  土屋 征司
出願人/特許権者： 三菱ケミカル株式会社
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-143766
公開番号（公開出願番号）：特開2013-032508
特許番号：特許第6262416号
出願日： 2012年06月27日
公開日（公表日）： 2013年02月14日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 重合溶媒の存在下に、重合開始剤を使用して、単量体をラジカル重合させて重合反応溶液を得る重合工程と、 前記重合反応溶液を重合体に対する貧溶媒と混合し、重合体を析出させて析出物を得る回収工程と、 前記析出物を固形分含有量が65〜90質量%の範囲内となるように乾燥させて、微乾燥粉末を得る微乾燥工程と、 前記微乾燥粉末を、重合体に対する良溶媒に溶解させる溶解工程とを有し、 前記溶解工程において、前記微乾燥粉末の温度が0〜40°Cであり、前記良溶媒の温度が0〜40°Cであり、混合させる微乾燥粉末と良溶媒との温度差の絶対値が20°C以下である、リソグラフィー用重合体溶液の製造方法。

IPC (3件)：

C08F 6/06 ( 200 6.01) ,  G03F 7/039 ( 200 6.01) ,  G03F 7/26 ( 200 6.01)

FI (3件)：

C08F 6/06 ,  G03F 7/039 601 ,  G03F 7/26

引用特許：

審査官引用 (3件)

• フォトレジスト用樹脂溶液の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2009-048539   出願人：JSR株式会社
• フォトレジスト用高分子化合物の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2009-121444   出願人：ダイセル化学工業株式会社
• ArFエキシマレーザーレジスト用ポリマー溶液の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-364295   出願人：ダイセル化学工業株式会社