特許
J-GLOBAL ID:201803007218250475
低摩擦化された表面を有する高強度ゲルの製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (8件):
田中 伸一郎
, 弟子丸 健
, ▲吉▼田 和彦
, 大塚 文昭
, 西島 孝喜
, 須田 洋之
, 上杉 浩
, 近藤 直樹
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2017-022098
公開番号(公開出願番号):特開2018-127551
出願日: 2017年02月09日
公開日(公表日): 2018年08月16日
要約:
【課題】ゲル材料の表面に潤滑剤などを塗布することなく、比較的容易に高強度ゲルに低摩擦化された表面を付与することができ、低摩擦が要求される用途に使用することのできる低摩擦化された表面を有する高強度ゲルを製造することのできる方法を提供する。【解決手段】高強度ゲルのブロックを作成する工程、高強度ゲルのブロックを加工して、少なくとも1つの面の少なくとも一部の表面粗さを増大させることにより、高強度ゲルのブロックに低摩擦表面を付与する工程を含むことを特徴とする、低摩擦化された表面を有する高強度ゲルの製造方法。【選択図】図1
請求項(抜粋):
低摩擦化された表面を有する高強度ゲルの製造方法であって、
高強度ゲルのブロックを作製する工程、
前記高強度ゲルのブロックを加工して、少なくとも1つの面の少なくとも一部の表面粗さを増大させることにより、前記高強度ゲルのブロックに低摩擦表面を付与する工程、
を含むことを特徴とする、前記製造方法。
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (11件):
4F070AA36
, 4F070AB13
, 4F070BA10
, 4F070BB02
, 4F070CA13
, 4F070CA14
, 4F070CB00
, 4F073AA06
, 4F073BA18
, 4F073BB02
, 4F073GA05
引用特許:
出願人引用 (3件)
-
3Dプリンタ用ゲル材料
公報種別:公開公報
出願番号:特願2015-142322
出願人:国立大学法人山形大学
-
高分子ゲル潤滑方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-373894
出願人:科学技術振興事業団
-
高分子ゲル構造体及びその製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2007-219791
出願人:スリーエムイノベイティブプロパティズカンパニー
審査官引用 (3件)
-
3Dプリンタ用ゲル材料
公報種別:公開公報
出願番号:特願2015-142322
出願人:国立大学法人山形大学
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高分子ゲル潤滑方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-373894
出願人:科学技術振興事業団
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高分子ゲル構造体及びその製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2007-219791
出願人:スリーエムイノベイティブプロパティズカンパニー
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