特許
J-GLOBAL ID：201803007841393660
プラズマ処理方法およびプラズマ処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
岩崎 重美
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-197746
公開番号（公開出願番号）：特開2017-022136
特許番号：特許第6298867号
出願日： 2016年10月06日
公開日（公表日）： 2017年01月26日
請求項（抜粋）：
【請求項1】試料がプラズマ処理されるプラズマ処理室と、プラズマ生成用の第一の高周波電力を供給する第一の高周波電源と、前記試料が載置される試料台に第二の高周波電力を供給する第二の高周波電源とを備えるプラズマ処理装置を用いたプラズマ処理方法において、
第一のパルスにより前記第一の高周波電力を時間変調し、
前記プラズマ処理の開始から終了までの間、プラズマ処理時間の経過とともに前記第一のパルスのオン期間の前記第一の高周波電力を変化させずに前記第一のパルスのデューティー比を漸次的に変化させることを特徴とするプラズマ処理方法。
IPC (3件)：
H05H 1/46 ( 200 6.01)
, H01L 21/3065 ( 200 6.01)
, B81C 1/00 ( 200 6.01)
H05H 1/46 C
, H01L 21/302 101 G
, H01L 21/302 101 D
, H01L 21/302 301 S
, H05H 1/46 R
, B81C 1/00
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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