特許
J-GLOBAL ID：201803007862591640
大断面トンネルの構築方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
久寶 聡博
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-132048
公開番号（公開出願番号）：特開2018-003453
出願日： 2016年07月01日
公開日（公表日）： 2018年01月11日
要約：
【課題】隣り合う2本の小径シールドトンネル間における止水性や安全性確保に多大なコストをかけることなく、なおかつ小径シールドを発進到達させる際に坑口での止水性低下を防止する。【解決手段】本発明に係る大断面トンネルの構築方法においては、小径シールドトンネル4-1〜4-24を構築する際、先行構築側では、先行構築された裏込め領域52の一部を切削しつつ該裏込め領域に近接する側方地山を掘削することにより、未構築側では側方地山を掘削することにより、トンネル軸線方向に沿った側方空間41,61をそれぞれ形成し、次いで、該各側方空間に流動性固化材を充填することにより、先行構築側では、裏込め領域52と連続一体化する拡張裏込め領域62を形成するとともに、未構築側ではあらたな裏込め領域52を形成する。【選択図】 図5
請求項（抜粋）：
大断面トンネルが構築される構築予定領域の周縁に沿って複数本からなる小径シールドトンネルを該大断面トンネルのトンネル軸線方向に延設し、該複数本の小径シールドトンネルを先受け構造体として外殻を構築した後、該外殻で囲まれた内側領域を掘削する大断面トンネルの構築方法において、
前記小径シールドトンネルを構築するにあたって小径シールドで地山掘削を行う際、隣り合う小径シールドトンネルが先行構築されている場合には、該先行構築側で、先行構築された小径シールドトンネルのシールドセグメント背後に拡がる裏込め領域の一部を切削しつつ該裏込め領域に近接する側方地山を掘削することにより、トンネル軸線方向に沿った側方空間を形成するとともに、隣り合う小径シールドトンネルが未だ構築されていない場合には、該未構築側で側方地山を掘削することにより、トンネル軸線方向に沿った側方空間を形成し、
前記側方空間の形成工程と並行して又はその形成後、該側方空間に流動性固化材を充填することにより、前記先行構築側では、前記裏込め領域と連続一体化する拡張裏込め領域を形成するとともに、前記未構築側では、あらたな裏込め領域を形成することを特徴とする大断面トンネルの構築方法。
IPC (3件)：
E21D 9/01
, E21D 9/04
, E21D 9/06
E21D9/01
, E21D9/04 F
, E21D9/06 301D
2D054AA03
, 2D054AA04
, 2D054AA05
, 2D054AC15
, 2D054AD22
, 2D054BA10
, 2D054FA02
