特許
J-GLOBAL ID：201803008672381904
ディザパタン作成方法および画像処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
特許業務法人 谷・阿部特許事務所
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-182131
公開番号（公開出願番号）：特開2014-113819
特許番号：特許第6296726号
出願日： 2013年09月03日
公開日（公表日）： 2014年06月26日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 単位領域を構成するN画素(Nは自然数)の夫々が有する多値の階調値を低階調化する際に、前記N画素の夫々に対応して用意され前記多値の階調値のそれぞれと比較するための閾値で構成されたディザパタンを作成するためのディザパタン作成方法であって、
一部の画素については閾値がまだ設定されておらず、他の画素については閾値が既に設定されている第1のディザパタンと第2のディザパタンを用意する用意工程と、
基準画素および該基準画素の周辺の画素に対して既に閾値が設定されたか否かを示す情報を、前記第1のディザパタンの前記N画素のそれぞれを前記基準画素とした場合について取得する第1の取得工程と、
該第1の取得工程で取得した前記情報に基づいて、前記第2のディザパタンにおける所定の閾値が設定される画素を、閾値がまだ設定されていない画素の中から決定し、決定された前記第2のディザパタンの画素に前記所定の閾値を設定する第1の設定工程と、を有することを特徴とするディザパタン作成方法。
IPC (3件)：
B41J 2/01 ( 200 6.01)
, B41J 2/205 ( 200 6.01)
, H04N 1/405 ( 200 6.01)
B41J 2/01 201
, B41J 2/01 213
, B41J 2/205
, H04N 1/40 C
