特許
J-GLOBAL ID：201803009420180627
浸炭処理用ガス製造方法およびそれに用いる浸炭処理用ガス製造設備
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
西藤 征彦
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-120086
公開番号（公開出願番号）：特開2014-237868
特許番号：特許第6234711号
出願日： 2013年06月06日
公開日（公表日）： 2014年12月18日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 少なくとも一酸化炭素ガスと水素ガスとを含む浸炭処理用ガスの製造方法であって、天然ガスを第1ヒータで加熱してから、脱硫器に通し第1管路に送る第1工程と、酸素ガスを第2ヒータで加熱し第2管路に送る第2工程と、上記第1工程を経たガスと上記第2工程を経たガスとを混合し、その混合ガスを改質器に通すことにより、一酸化炭素ガスと水素ガスとを含むガスを生成する第3工程と、この第3工程により得られた上記一酸化炭素ガスと上記水素ガスとを含む上記生成したガスを、第3管路および冷却器に、この順で通した後、気液分離器で気液分離し、その気液分離された後の液体を排水管路から外部に排水し、上記気液分離された後の気体を圧縮機吸込ホルダに通してから、その気体を圧縮機により圧縮する第4工程と、この第4工程により圧縮された上記一酸化炭素ガスと上記水素ガスとを含む上記気体を、第4管路に通してから圧力スイング吸着装置に通すことにより、それら一酸化炭素ガスと水素ガスの濃度を高める第5工程とを備え、上記一酸化炭素ガスの濃度が30〜60モル%の範囲内の浸炭処理用ガスを得ることを特徴とする浸炭処理用ガス製造方法。
IPC (5件)：
C23C 8/22 ( 200 6.01)
, C21D 1/06 ( 200 6.01)
, C22C 38/00 ( 200 6.01)
, C22C 38/44 ( 200 6.01)
, C21D 1/76 ( 200 6.01)
C23C 8/22
, C21D 1/06 A
, C22C 38/00 302 Z
, C22C 38/44
, C21D 1/76 F
