感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、パターン形成方法、及び、電子デバイスの製造方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：渡辺望稔 , 伊東秀明 , 三橋史生
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-089119
公開番号（公開出願番号）：特開2018-163348
出願日： 2018年05月07日
公開日（公表日）： 2018年10月18日
要約：

【課題】フォーカス許容度が大きく、かつ、解像力に優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、上記組成物を用いたパターン形成方法、電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイスを提供する。【解決手段】樹脂(P)を含有し、上記樹脂(P)が、酸分解性基を有する繰り返し単位(a)と、ラクトン構造等を有する繰り返し単位(b)とを含み、上記繰り返し単位(a)が、特定の一般式(1)で表される繰り返し単位(a1)を少なくとも含み、上記繰り返し単位(b)が、特定の一般式(b1)等で表される繰り返し単位であり、上記樹脂(P)の全繰り返し単位に対する上記繰り返し単位(a1)の含有量が、35モル%以上であり、上記樹脂(P)が、特定の一般式(X1)で表される基、特定の一般式(X2)で表される構造、ヒドロキシアダマンチル基、及び、ヒドロキシアダマンチル基のヒドロキシ基が酸の作用により分解し脱離する基で保護された基をいずれも含まない、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

樹脂(P)と、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物とを含有する、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物であって、前記樹脂(P)が、酸の作用により分解して極性基を生じる基を有する繰り返し単位(a)と、ラクトン構造、スルトン構造、及び、カーボネート構造の少なくともいずれかを有する繰り返し単位(b)とを含み、前記繰り返し単位(a)が、下記一般式(1)で表される繰り返し単位(a1)を少なくとも含み、前記樹脂(P)の全繰り返し単位に対する前記繰り返し単位(a1)の含有量が、35モル%以上であり、前記繰り返し単位(b)が、下記一般式(b1)〜(b7)のいずれかで表される繰り返し単位であり、

IPC (5件)：

G03F 7/038 , G03F 7/039 , G03F 7/32 , G03F 7/20 , C08F 220/12

FI (5件)：

G03F7/038 601 , G03F7/039 601 , G03F7/32 , G03F7/20 521 , C08F220/12

Fターム (114件)：

2H196AA25 , 2H196BA06 , 2H196EA05 , 2H196FA01 , 2H196GA03 , 2H197AA09 , 2H197AA12 , 2H197BA17 , 2H197CA01 , 2H197CA02 , 2H197CA03 , 2H197CA05 , 2H197CA08 , 2H197CA09 , 2H197CA10 , 2H197CE01 , 2H197CE10 , 2H197DB29 , 2H197HA01 , 2H197HA02 , 2H197HA03 , 2H197HA05 , 2H197HA10 , 2H197JA22 , 2H225AF24P , 2H225AF32P , 2H225AF33P , 2H225AF35P , 2H225AF44P , 2H225AF53P , 2H225AF66P , 2H225AF67P , 2H225AF68P , 2H225AF70P , 2H225AF75P , 2H225AF94P , 2H225AF99P , 2H225AH12 , 2H225AH15 , 2H225AH19 , 2H225AH30 , 2H225AH32 , 2H225AH33 , 2H225AH36 , 2H225AH38 , 2H225AH39 , 2H225AH41 , 2H225AH49 , 2H225AH50 , 2H225AJ12 , 2H225AJ13 , 2H225AJ16 , 2H225AJ18 , 2H225AJ53 , 2H225AJ54 , 2H225AJ57 , 2H225AJ58 , 2H225AJ59 , 2H225AJ60 , 2H225AJ82 , 2H225AL03 , 2H225AL27 , 2H225AM22P , 2H225AM23P , 2H225AM27P , 2H225AN38P , 2H225AN39P , 2H225AN42P , 2H225AN51P , 2H225AN54P , 2H225AN57P , 2H225AN62P , 2H225AN65P , 2H225AN86P , 2H225AN88P , 2H225BA01P , 2H225BA26P , 2H225BA29P , 2H225BA32P , 2H225BA33P , 2H225CA12 , 2H225CB10 , 2H225CC01 , 2H225CC15 , 2H225CD05 , 4J100AL08P , 4J100AL08Q , 4J100AL16P , 4J100AL16Q , 4J100BA02P , 4J100BA12Q , 4J100BA15P , 4J100BA20Q , 4J100BA28P , 4J100BA40Q , 4J100BC02P , 4J100BC03P , 4J100BC04P , 4J100BC09P , 4J100BC43P , 4J100BC53Q , 4J100BC58Q , 4J100BC60Q , 4J100BC79P , 4J100BC84Q , 4J100CA04 , 4J100CA05 , 4J100CA06 , 4J100DA04 , 4J100DA05 , 4J100FA03 , 4J100FA19 , 4J100FA28 , 4J100JA38

引用特許：

出願人引用 (2件)

酸発生剤、化学増幅型レジスト材料、及びパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2013-024204 出願人：信越化学工業株式会社
パターン形成方法及びレジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2013-042709 出願人：信越化学工業株式会社

審査官引用 (2件)

酸発生剤、化学増幅型レジスト材料、及びパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2013-024204 出願人：信越化学工業株式会社
パターン形成方法及びレジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2013-042709 出願人：信越化学工業株式会社

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