特許
J-GLOBAL ID：201303071928971956

酸発生剤、化学増幅型レジスト材料、及びパターン形成方法

発明者：
大橋 正樹

大橋 正樹 について

, 
小林 知洋

小林 知洋 について

, 
提箸 正義

提箸 正義 について


出願人/特許権者：
信越化学工業株式会社

信越化学工業株式会社 について


代理人 (1件)： 好宮 幹夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-024204
公開番号（公開出願番号）：特開2013-209360
出願日： 2013年02月12日
公開日（公表日）： 2013年10月10日
要約：
【課題】特に、解像性の劣化を伴わず、LER、焦点深度の問題を満足し、幅広く有効に使用し得るなど、レジスト材料の酸発生剤として好適な新規酸発生剤、これを用いた化学増幅型レジスト材料、並びにパターン形成方法を提供することを目的とする。【解決手段】高エネルギー線又は熱に感応し、下記一般式(1)で示されるスルホン酸を発生することを特徴とする酸発生剤。 【化1】【選択図】なし
請求項（抜粋）：
高エネルギー線又は熱に感応し、下記一般式(1)で示されるスルホン酸を発生することを特徴とする酸発生剤。
IPC (9件)：
C07C 309/12 ,  G03F 7/004 ,  G03F 7/039 ,  G03F 7/038 ,  C07C 381/12 ,  C07D 213/79 ,  C07D 213/55 ,  C08F 220/00 ,  H01L 21/027
FI (9件)：
C07C309/12 ,  G03F7/004 503A ,  G03F7/039 601 ,  G03F7/038 601 ,  C07C381/12 ,  C07D213/79 ,  C07D213/55 ,  C08F220/00 ,  H01L21/30 502R
Fターム (59件)：
2H125AF17P ,  2H125AF36P ,  2H125AF38P ,  2H125AF53P ,  2H125AF70P ,  2H125AH05 ,  2H125AH16 ,  2H125AH17 ,  2H125AH19 ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ69X ,  2H125AM22P ,  2H125AM66P ,  2H125AM94P ,  2H125AM99P ,  2H125AN39P ,  2H125AN42P ,  2H125AN54P ,  2H125AN65P ,  2H125BA01P ,  2H125BA26P ,  2H125BA32P ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CC01 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  2H125FA03 ,  2H125FA05 ,  4C055AA01 ,  4C055BA01 ,  4C055CA01 ,  4C055CA02 ,  4C055CA33 ,  4C055CB09 ,  4C055DA01 ,  4C055DA57 ,  4C055DB09 ,  4C055GA01 ,  4H006AA01 ,  4H006AB40 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100BA03Q ,  4J100BA16Q ,  4J100BC03P ,  4J100BC07P ,  4J100BC09P ,  4J100BC09Q ,  4J100BC12P ,  4J100BC53P ,  4J100BC53Q ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100DA01 ,  4J100EA05 ,  4J100JA38
引用特許：
審査官引用 (12件)
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