特許
J-GLOBAL ID：201803009990746373

溶射膜を有する基材

発明者：
中村 元

中村 元 について

, 
今村 拓夫

今村 拓夫 について

, 
石川 典明

石川 典明 について


出願人/特許権者：
新日鉄住金マテリアルズ株式会社

新日鉄住金マテリアルズ株式会社 について


代理人 (7件)： 青木 篤 ,  石田 敬 ,  古賀 哲次 ,  亀松 宏 ,  福地 律生 ,  ▲徳▼永 英男 ,  中村 朝幸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-121977
公開番号（公開出願番号）：特開2017-226865
出願日： 2016年06月20日
公開日（公表日）： 2017年12月28日
要約：
【課題】溶射膜と基材との間に、原子拡散により、十分な接合強度を示す拡散層を形成して密着性を良好とし、かつ溶射膜を緻密化することにより耐腐食性が良好な溶射膜を有する基材およびその製造方法を低コストで提供すること。【解決手段】以下の構成を有する溶射膜を有する基材である。溶射膜は、気孔率が2%以下である緻密部を有し、緻密部と基材との間に、溶射膜に含まれる金属と基材に含まれる金属との相互拡散により形成される拡散層を有する。また、以下の構成を有する溶射膜を有する基材の製造方法である。気孔率が3%以下である緻密部を有する溶射膜を基材に形成する溶射膜形成工程と、溶射膜形成後の基材に、HIP処理をカプセルフリー法により行い、溶射金属と基材に含まれる金属との相互拡散により拡散層を形成する拡散層形成工程と、を有し、HIP処理後の緻密部の気孔率が2%以下である。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
溶射膜を有する基材であって、 前記溶射膜は、気孔率が2%以下である緻密部を有し、 前記緻密部と前記基材との間に、前記溶射膜に含まれる溶射金属と前記基材に含まれる金属との相互拡散により形成された拡散層を有することを特徴とする溶射膜を有する基材。
IPC (3件)：
C23C 4/18 ,  C23C 4/08 ,  B23K 20/00
FI (3件)：
C23C4/18 ,  C23C4/08 ,  B23K20/00 360Z
Fターム (17件)：
4E167AA02 ,  4E167AA10 ,  4E167AA11 ,  4E167AA29 ,  4E167AD08 ,  4E167BA05 ,  4E167BA09 ,  4E167BA13 ,  4E167DB01 ,  4E167DB04 ,  4K031AB03 ,  4K031AB04 ,  4K031AB07 ,  4K031CA02 ,  4K031DA03 ,  4K031FA01 ,  4K031FA03
引用特許：
出願人引用 (15件)
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審査官引用 (22件)
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