露光装置、露光方法、それらを用いたデバイスの製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：高岡亮一
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-121176
公開番号（公開出願番号）：特開2014-239162
特許番号：特許第6238580号
出願日： 2013年06月07日
公開日（公表日）： 2014年12月18日
請求項（抜粋）：

【請求項1】原版に形成されているパターンに光を照射し、投影光学系を介して前記パターンの像を基板上に露光する露光装置であって、前記基板を保持して移動可能である基板保持部と、前記基板の一部が露光領域にある状態で、前記投影光学系と前記基板保持部との間の空間に気体を供給して前記空間の酸素濃度を変更する気体供給部と、前記気体供給部が前記空間に前記気体を供給している間に前記酸素濃度によって過渡的に変化する前記パターンの結像性能を補正する補正部と、を備えることを特徴とする露光装置。

IPC (1件)：