特許

J-GLOBAL ID：200903077877488037

露光装置とそのガス供給方法

発明者： 長坂 博之 ,  白石 直正
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (4件)： 志賀 正武 ,  高橋 詔男 ,  青山 正和 ,  西 和哉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-371777
公開番号（公開出願番号）：特開2005-136263
出願日： 2003年10月31日
公開日（公表日）： 2005年05月26日
要約：

【課題】 環境の変化にも容易に対応する。【解決手段】 露光光の光路上の第1領域WDに第1の気体を供給する第1の気体供給機構HSと、第1領域WDに、第1の気体とは種類が異なる第2の気体を供給する第2の気体供給機構NSと、第1領域WDにおける雰囲気の屈折率が、露光光の光路とは異なる第2領域BAにおける雰囲気の屈折率と略同一になるように、第1領域WDへ供給する第1の気体と第2の気体との混合比を調整する調整装置MSとを備える。【選択図】 図2

請求項（抜粋）：

露光光によりマスクのパターン像を基板に露光する露光装置であって、 前記露光光の光路上の第1領域に第1の気体を供給する第1の気体供給機構と、 前記第1領域に、前記第1の気体とは種類が異なる第2の気体を供給する第2の気体供給機構と、 前記第1領域における雰囲気の屈折率が、前記露光光の光路とは異なる第2領域における雰囲気の屈折率と略同一になるように、前記第1領域へ供給する前記第1の気体と前記第2の気体との混合比を調整する調整装置とを備えることを特徴とする露光装置。

IPC (2件)：

H01L21/027 ,  G03F7/20

FI (2件)：

H01L21/30 516F ,  G03F7/20 521

Fターム (7件)：

5F046AA22 ,  5F046BA03 ,  5F046CA04 ,  5F046CB23 ,  5F046CB24 ,  5F046DA27 ,  5F046FB20

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-046519   出願人：株式会社ニコン
• リソグラフ投影装置に用いる洗浄ガスシステム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-375240   出願人：エイエスエムリトグラフィーベスローテンフエンノートシャップ

審査官引用 (4件)

• 露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-373973   出願人：キヤノン株式会社
• 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-089089   出願人：株式会社ニコン
• 投影光学系、該投影光学系を有する露光装置、デバイス製造方法及びデバイス
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-342933   出願人：キヤノン株式会社
• 露光装置及びデバイス製造装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-324901   出願人：株式会社ニコン