特許
J-GLOBAL ID：201103003138013831

露光方法、露光装置及びデバイス製造方法

発明者：
川波 健太郎

川波 健太郎 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (6件)： 大塚 康徳 ,  高柳 司郎 ,  大塚 康弘 ,  木村 秀二 ,  下山 治 ,  永川 行光
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-158196
公開番号（公開出願番号）：特開2011-014745
出願日： 2009年07月02日
公開日（公表日）： 2011年01月20日
要約：
【課題】 投影光学系内の環境条件の変化に起因する投影光学系の結像特性の変化を精度良く補正する。【解決手段】 露光方法は、照明光学系の開口数及び有効光源、投影光学系の開口数、並びに、マスクのパターンの寸法及びピッチから選択された少なくとも一つのパラメータと、前記投影光学系内の環境条件の変化量とに基づいて、前記投影光学系の結像特性の変化を補正する補正部の補正量を算出する算出工程と、前記算出工程で算出された補正量に従って前記補正部を動作させる補正工程と、を含む。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
パターンが形成されたマスクを照明光学系で照明し、前記照明されたパターンを投影光学系を介して基板に投影する露光方法であって、 前記照明光学系の開口数及び有効光源、前記投影光学系の開口数、並びに、前記パターンの寸法及びピッチから選択された少なくとも一つのパラメータと、前記投影光学系内の環境条件の変化量とに基づいて、前記投影光学系の結像特性の変化を補正する補正部の補正量を算出する算出工程と、 前記算出工程で算出された補正量に従って前記補正部を動作させる補正工程と、を含む、ことを特徴とする露光方法。
IPC (2件)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/20
FI (3件)：
H01L21/30 516A ,  H01L21/30 516F ,  G03F7/20 521
Fターム (9件)：
5F046AA22 ,  5F046BA03 ,  5F046CB05 ,  5F046CB23 ,  5F046CB24 ,  5F046DA13 ,  5F046DA14 ,  5F046DA26 ,  5F046DA27
引用特許：
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (7件)
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