特許
J-GLOBAL ID:201803011243880308

3次元的基板用の高密度マスク及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 加藤 公延 ,  大島 孝文
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2013-091216
公開番号(公開出願番号):特開2013-229605
特許番号:特許第6246487号
出願日: 2013年04月24日
公開日(公表日): 2013年11月07日
請求項(抜粋):
【請求項1】 非平面状の基材と組み合わせて使用される1つ又は2つ以上のコンタクトレンズ用のシャドーマスクを製造するための方法であって、 内部に機械加工された1つ又は2つ以上の非平面状の型枠を有するマンドレルを製造する工程であって、前記1つ又は2つ以上の非平面状の型枠が、マスクされる非平面状の基材の形状に対応している、工程と、 前記マンドレル中の前記1つ又は2つ以上の非平面状の型枠内に1つ又は2つ以上のシャドーマスクブランクを形成する工程と、 前記1つ又は2つ以上のシャドーマスクブランクを前記マンドレルから剥離する工程と、 前記1つ又は2つ以上のシャドーマスクブランクに所定のパターンを機械加工して1つ又は2つ以上のシャドーマスクを形成する工程であって、前記所定のパターンが前記1つ又は2つ以上のシャドーマスクのサイズよりも大幅に小さい特徴部を有するものである、工程と、を含み、 マンドレルを製造する前記工程が、ほぼ平行な前面及び後面を有するほぼ円筒形の構造体を作製することと、前記1つ又は2つ以上の非平面状の型枠を前記前面に機械加工することとを含む、方法。
IPC (4件):
C23C 14/04 ( 200 6.01) ,  H05K 3/14 ( 200 6.01) ,  H05K 1/02 ( 200 6.01) ,  G02C 7/04 ( 200 6.01)
FI (4件):
C23C 14/04 A ,  H05K 3/14 B ,  H05K 1/02 B ,  G02C 7/04
引用特許:
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (6件)
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