特許
J-GLOBAL ID：201803013594021657

塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法

発明者：
増山 達郎

増山 達郎 について

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山口 訓史

山口 訓史 について

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市川 幸司

市川 幸司 について


出願人/特許権者：
住友化学株式会社

住友化学株式会社 について


代理人 (2件)： 中山 亨 ,  坂元 徹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-038327
公開番号（公開出願番号）：特開2018-145185
出願日： 2018年03月05日
公開日（公表日）： 2018年09月20日
要約：
【課題】良好なCD均一性(CDU)でレジストパターンを製造することができる塩及び該塩を含むレジスト組成物の提供。【解決手段】式(I)で表される塩。[Q1及びQ2は、それぞれ独立にフッ素原子又は炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基を表す。R1及びR2は、それぞれ独立に水素原子、又はフッ素原等を表す。zは、0〜6のいずれかの整数を表す。X1及びX2は、それぞれ独立に、-CO-O-、又は-O-等を表す。L1は、炭素数1〜24の2価の飽和炭化水素基等を表す。L2及びL3は、それぞれ独立に単結合又は炭素数1〜6のアルカンジイル基を表す。Xa及びXbは、それぞれ独立に酸素原子又は硫黄原子を表す。R3及びR4は、それぞれ独立に炭素数1〜6のアルキル基等を表す。R5は、置換基を有していてもよい炭素数1〜24の炭化水素基等を表す。Z+は有機カチオンを表す]【選択図】なし
請求項（抜粋）：
式(I)で表される塩。
IPC (7件)：
C07D 319/06 ,  G03F 7/004 ,  G03F 7/039 ,  G03F 7/038 ,  G03F 7/20 ,  C07D 319/08 ,  C09K 3/00
FI (9件)：
C07D319/06 ,  G03F7/004 503A ,  G03F7/004 501 ,  G03F7/039 601 ,  G03F7/038 601 ,  G03F7/20 501 ,  G03F7/20 521 ,  C07D319/08 ,  C09K3/00 K
Fターム (43件)：
2H197AA44 ,  2H197CA06 ,  2H197CA07 ,  2H197CA08 ,  2H197CA09 ,  2H197CA10 ,  2H197CB01 ,  2H197GA01 ,  2H197HA03 ,  2H197JA22 ,  2H225AF11P ,  2H225AF16P ,  2H225AF22P ,  2H225AF24P ,  2H225AF52P ,  2H225AF53P ,  2H225AF54P ,  2H225AF67P ,  2H225AF68P ,  2H225AF71P ,  2H225AF91P ,  2H225AF99P ,  2H225AH17 ,  2H225AH19 ,  2H225AJ55 ,  2H225AJ58 ,  2H225AM23P ,  2H225AM27P ,  2H225AN38P ,  2H225AN39P ,  2H225AN45P ,  2H225AN54P ,  2H225BA02P ,  2H225BA26P ,  2H225BA29P ,  2H225CA12 ,  2H225CB10 ,  2H225CC01 ,  2H225CC15 ,  2H225CD05 ,  4C022GA04 ,  4C022GA09 ,  4C022HA04
引用特許：
出願人引用 (5件)
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