研磨液及び研磨方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：長谷川芳樹 , 清水義憲 , 平野裕之 , 古下智也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-121843
公開番号（公開出願番号）：特開2017-228576
出願日： 2016年06月20日
公開日（公表日）： 2017年12月28日
要約：

【課題】砥粒と、アニオン性を示す材料とを含有する研磨液であって、従来よりも優れた酸化ケイ素の研磨速度を有する研磨液を提供する。【解決手段】酸化ケイ素を含む被研磨面の研磨に用いられる研磨液であって、酸化セリウムを含む砥粒と、リン酸塩化合物及びリン酸水素塩化合物からなる群より選ばれる少なくとも一種と、水と、を含有する、研磨液。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

酸化ケイ素を含む被研磨面の研磨に用いられる研磨液であって、酸化セリウムを含む砥粒と、リン酸塩化合物及びリン酸水素塩化合物からなる群より選ばれる少なくとも一種と、水と、を含有する、研磨液。

IPC (4件)：

H01L 21/304 , B24B 37/00 , C09K 3/14 , C09G 1/02

FI (6件)：

H01L21/304 622D , H01L21/304 621D , B24B37/00 H , C09K3/14 550D , C09K3/14 550Z , C09G1/02

Fターム (23件)：

3C158AA07 , 3C158AC04 , 3C158CA01 , 3C158CB03 , 3C158DA12 , 3C158DA17 , 3C158ED11 , 3C158ED23 , 3C158ED24 , 3C158ED26 , 5F057AA14 , 5F057AA28 , 5F057BA18 , 5F057BB16 , 5F057BB37 , 5F057CA11 , 5F057DA03 , 5F057EA01 , 5F057EA09 , 5F057EA17 , 5F057EA28 , 5F057EA29 , 5F057EA31

引用特許：

審査官引用 (6件)

化学機械的ポリシングスラリー及びこれを用いた化学機械的ポリシング方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-325915 出願人：三星電子株式会社
化学機械研磨用研磨剤組成物及びその使用法
公報種別：公表公報出願番号：特願2011-529022 出願人：ローディア・オペラシオン, クラークソンユニバーシティ
CMP研磨剤及びその製造方法、並びに基板の研磨方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2014-208014 出願人：信越化学工業株式会社

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