特許
J-GLOBAL ID:201803014592216872
ビーム電流動作の広い範囲におけるイオンビームの制御
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (3件):
杉村 憲司
, 杉村 光嗣
, 石川 雅章
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2018-518424
公開番号(公開出願番号):特表2018-530889
出願日: 2016年10月03日
公開日(公表日): 2018年10月18日
要約:
本明細書において、加速器/減速器内で、イオンビームを制御するためのアプローチが提供される。例示的アプローチにおいて、イオン注入システムは、イオンビームを生成するためのイオン源と、端子に連結される端子抑制電極と、を含み、該端子抑制電極は、該端子抑制電極のアパーチャを通って前記イオンビームを導き、第1の電圧源から第1の電位を前記イオンビームへ印加するように構成される。前記システムは、さらに、前記端子に連結され、前記端子抑制電極に隣接して配置されるレンズであって、該レンズは、該レンズのアパーチャを通って前記イオンビームを導き、第2の電圧源から第2の電位を前記イオンビームへ印加するように構成されるレンズを含む。例示的アプローチにおいて、前記第1及び前記第2の電位は、各々、前記レンズは前記端子及び前記端子抑制電極から電気的に絶縁され、独立に制御され、したがって、増大したビーム電流動作範囲を可能にさせる。
請求項(抜粋):
イオンビームを制御するための加速器/減速器であって、該加速器/減速器は、
第1の電極のアパーチャを通って前記イオンビームを導き、第1の電位を前記イオンビームへ印加するように構成される第1の電極と、
該第1の電極に隣接するレンズであって、該レンズは、該レンズのアパーチャを通って前記イオンビームを導き、第2の電位を前記イオンビームへ印加するように構成され、前記第2の電位は前記第1の電位から独立に印加される、レンズと、
該レンズから前記イオンビームを受けるように構成される第2の電極と、
該第2の電極から前記イオンビームを受けるように構成される第3の電極アセンブリと、を備える、加速器/減速器。
IPC (2件):
H01J 37/147
, H01J 37/317
FI (2件):
H01J37/147 D
, H01J37/317 Z
Fターム (2件):
引用特許:
出願人引用 (2件)
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イオンビームの加速装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-076811
出願人:日新電機株式会社
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リボン状イオンビームの成形技術
公報種別:公表公報
出願番号:特願2008-540289
出願人:バリアン・セミコンダクター・エクイップメント・アソシエイツ・インコーポレイテッド
審査官引用 (2件)
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イオンビームの加速装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-076811
出願人:日新電機株式会社
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リボン状イオンビームの成形技術
公報種別:公表公報
出願番号:特願2008-540289
出願人:バリアン・セミコンダクター・エクイップメント・アソシエイツ・インコーポレイテッド
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