特許

J-GLOBAL ID：201803014953379852

液浸露光装置、露光装置及びデバイス製造方法

発明者： 小林 直行 ,  谷元 昭一 ,  水野 恭志 ,  白石 健一 ,  中野 勝志 ,  大和 壮一
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (3件)： 西澤 和純 ,  大浪 一徳 ,  小林 淳一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-001074
公開番号（公開出願番号）：特開2018-077518
出願日： 2018年01月09日
公開日（公表日）： 2018年05月17日
要約：

【課題】投影光学系と液体とを介して基板にパターンを投影して露光する際、不要な液体を除去して所望のデバイスパターンを基板上に形成可能な露光装置を提供する。【解決手段】露光装置は、投影光学系と液体とを介して基板上にパターンの像を投影し、基板を露光する露光装置であって、投影光学系の像面付近に配置された部品上に残留した液体を除去する液体除去機構を備えている。【選択図】図3

請求項（抜粋）：

投影光学系と液体とを介して基板上にパターンの像を投影し、前記基板を露光する露光装置において、 前記投影光学系の像面付近に配置された部品上に残留した液体を除去する液体除去機構を備えたことを特徴とする露光装置。

IPC (2件)：

G03F 7/20 ,  G03F 7/22

FI (3件)：

G03F7/20 521 ,  G03F7/20 501 ,  G03F7/22 H

Fターム (23件)：

2H197AA06 ,  2H197AA09 ,  2H197AA12 ,  2H197AA44 ,  2H197BA09 ,  2H197BA17 ,  2H197CC13 ,  2H197CD02 ,  2H197CD12 ,  2H197CD17 ,  2H197DB10 ,  2H197DB27 ,  2H197DB29 ,  2H197DC01 ,  2H197DC02 ,  2H197DC14 ,  2H197FA02 ,  2H197FA03 ,  2H197FB03 ,  2H197HA03 ,  2H197HA04 ,  2H197HA05 ,  2H197HA10

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 液浸式投影露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-296518   出願人：キヤノン株式会社
• 露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-046519   出願人：株式会社ニコン
• 半導体製造装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-195040   出願人：株式会社日立製作所