マッピング方法および測定装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：須田篤 , 楠修二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2017-032950
公開番号（公開出願番号）：特開2018-138873
出願日： 2017年02月24日
公開日（公表日）： 2018年09月06日
要約：

【課題】パラメータ空間上での物理量の分布に適した測定点座標を用いて効率的なマッピング測定を行なうマッピング方法および測定装置を提供する。【解決手段】ある物理量を1つ以上のパラメータからなるパラメータ空間上の各点座標の条件で測定し、その物理量のパラメータ空間上での分布を得るマッピング測定において、マッピング測定の途中に、コンピュータを利用して、それまでに測定した点の座標と物理量とを解析してその物理量の分布を近似する応答曲面を取得した後、その応答曲面の近似精度がより高まるように以降に測定する点の座標を決めて測定を行なう。【選択図】図3

請求項（抜粋）：

ある物理量を1つ以上のパラメータからなるパラメータ空間上の各点座標の条件で測定し、前記物理量の前記パラメータ空間上での分布を得るマッピング測定において、マッピング測定の途中に、コンピュータを利用して、それまでに測定した点の座標と物理量とを解析して前記物理量の分布を近似する応答曲面を取得した後、前記応答曲面の近似精度がより高まるように以降に測定する点の座標を決めて、測定を行なうことを特徴とするマッピング方法。

IPC (2件)：

G01B 21/00 , G06F 17/17

FI (2件)：

G01B21/00 E , G06F17/17

Fターム (6件)：

2F069AA04 , 2F069DD19 , 2F069NN17 , 2F069NN21 , 2F069NN25 , 5B056BB55

引用特許：

出願人引用 (3件)

測定位置制御装置及び方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2004-180130 出願人：株式会社エヌ・ティ・ティ・ドコモ
特開平4-148878
センサ測定データを用いてデータ構造を更新するためのシステムおよび方法
公報種別：公表公報出願番号：特願2015-525820 出願人：アーゲーテーインターナショナルゲーエムベーハー

審査官引用 (4件)

測定位置制御装置及び方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2004-180130 出願人：株式会社エヌ・ティ・ティ・ドコモ
特開平4-148878
特開平4-148878

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