特許

J-GLOBAL ID：201803015664141313

ナノシリカ中空粒子の製造方法

発明者： 藤 正督 ,  高井 千加
出願人/特許権者： 国立大学法人 名古屋工業大学
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-168674
公開番号（公開出願番号）：特開2018-035031
出願日： 2016年08月31日
公開日（公表日）： 2018年03月08日
要約：

【課題】短時間で作成ができ、分散性、粘度、光拡散性を向上させることができ、加えて均質化を図るシリカ中空粒子の製造方法の提供。【解決手段】PAA(ポリアクリル酸)と水酸化ナトリウム水溶液とを混合してコア溶液とし、エタノールに、このコア溶液を加え、エマルジョンとし、このエマルジョンにTEOS(テトラエトキシシラン)を滴下しながら攪拌させ、シリカ殻を形成してコアシェル粒子とし、遠心分離にてコアシェル粒子を洗浄することにより、コア除去する、またはコア溶液混合を、SPG膜乳化法にて行うナノシリカ中空粒子の製造方法。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

PAA(ポリアクリル酸)と水酸化ナトリウム水溶液とを混合してコア溶液とし、 このコア溶液にエタノールを加え、エマルジョンとし、 このエマルジョンにTEOS(テトラエトキシシラン)を滴下しながら攪拌させ、シリカ殻を形成してコアシェル粒子とし、 遠心分離にてコアシェル粒子を洗浄することにより、コア除去したことを特徴とするナノシリカ中空粒子の製造方法。

IPC (3件)：

C01B 33/18 ,  B82Y 30/00 ,  B82Y 40/00

FI (3件)：

C01B33/18 Z ,  B82Y30/00 ,  B82Y40/00

Fターム (27件)：

4G072AA25 ,  4G072BB05 ,  4G072BB16 ,  4G072DD05 ,  4G072GG03 ,  4G072HH30 ,  4G072JJ14 ,  4G072JJ22 ,  4G072JJ23 ,  4G072JJ28 ,  4G072JJ30 ,  4G072JJ45 ,  4G072JJ47 ,  4G072KK03 ,  4G072KK06 ,  4G072KK07 ,  4G072KK17 ,  4G072LL11 ,  4G072MM02 ,  4G072MM03 ,  4G072MM23 ,  4G072MM26 ,  4G072MM33 ,  4G072RR05 ,  4G072UU09 ,  4G072UU15 ,  4G072UU30

引用特許：

審査官引用 (4件)

• コア-シェル型ナノ粒子
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2009-527049   出願人：ディーエスエムアイピーアセッツビー.ブイ.
• コア/シェル型粒子およびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-335344   出願人：富士フイルム株式会社
• 非凝集性コア/シェル型ナノコンポジット粒子
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2007-515527   出願人：ザペンステイトリサーチファウンデーション
• シリカ粒子およびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-045799   出願人：住友化学株式会社

引用文献：

審査官引用 (1件)

• 第29回秋季シンポジウム 講演予稿集, 20160829, 第1D20頁