特許
J-GLOBAL ID：201803015939492090
磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスクの製造方法、及び磁気ディスク用基板の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
グローバル・アイピー東京特許業務法人
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-237879
公開番号（公開出願番号）：特開2015-099623
特許番号：特許第6280349号
出願日： 2013年11月18日
公開日（公表日）： 2015年05月28日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 アルミノシリケートガラスからなるガラス基板の両側の主表面を、研磨パッドで押圧し、ガラス基板と前記研磨パッドとの間にシリカ砥粒を含む研磨スラリを供給しながら、前記主表面と前記研磨パッドとを相対的に移動させることにより、前記主表面を研磨する研磨処理を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、
前記研磨処理で用いる前記研磨パッドの、少なくとも前記主表面と接触する表面は、ウレア基を含まない発泡ポリウレタン樹脂で構成され、
前記シリカ砥粒の平均粒径は30nm以下であり、
前記研磨処理では、ガラス基板の算術平均粗さRaを0.2nm以下にする、ことを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
IPC (5件)：
G11B 5/84 ( 200 6.01)
, B24B 37/00 ( 201 2.01)
, B24B 7/24 ( 200 6.01)
, B24B 1/00 ( 200 6.01)
, C03C 19/00 ( 200 6.01)
G11B 5/84 A
, B24B 37/00 H
, B24B 7/24 E
, B24B 1/00 D
, C03C 19/00 Z
