特許
J-GLOBAL ID:201803016416089930

リバースモードの高分子分散型調光デバイスの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 籾井 孝文
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2017-004313
公開番号(公開出願番号):特開2018-112702
出願日: 2017年01月13日
公開日(公表日): 2018年07月19日
要約:
【課題】電圧無印加時の透過性に優れたリバースモードの高分子分散型調光デバイスの製造方法を提供すること。【解決手段】本発明のリバースモードの高分子分散型調光デバイスの製造方法は、一対の基板を用意すること;一対の基板の一方の基板上に、液晶化合物およびモノマー成分を含む液晶組成物を塗布して塗布層を形成すること;塗布層上に他方の基板を積層して積層体を作製すること;および、積層体に活性エネルギー線照射を行うこと;を含む。本発明の実施形態においては、活性エネルギー線照射時の温度TIRは-10°C〜20°Cである。【選択図】図1
請求項(抜粋):
一対の基板を用意すること、 該一対の基板の一方の基板上に、液晶化合物およびモノマー成分を含む液晶組成物を塗布して塗布層を形成すること、 該塗布層上に他方の基板を積層して積層体を作製すること、および 該積層体に活性エネルギー線照射を行うこと、を含み、 該活性エネルギー線照射時の温度TIRが-10°C〜20°Cである、 リバースモードの高分子分散型調光デバイスの製造方法。
IPC (1件):
G02F 1/133
FI (1件):
G02F1/1334
Fターム (5件):
2H189AA04 ,  2H189BA04 ,  2H189CA08 ,  2H189HA16 ,  2H189KA20
引用特許:
出願人引用 (3件) 審査官引用 (3件)

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