特許

J-GLOBAL ID：201803016811914141

蒸着マスク

発明者： 小野 敬亮 ,  武田 篤 ,  山田 哲行 ,  成谷 元嗣 ,  為川 貢 ,  大河原 健 ,  平坂 直人 ,  渡辺 大樹
出願人/特許権者： 株式会社ジャパンディスプレイ
代理人 (1件)： 特許業務法人はるか国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2017-022875
公開番号（公開出願番号）：特開2018-127705
出願日： 2017年02月10日
公開日（公表日）： 2018年08月16日
要約：

【課題】マスクを用いた成膜において、高精度なパターン成膜を実現する。【解決手段】蒸着マスクであって、パターン開口が形成されたパターン部および該パターン部を囲む枠部を有するマスク本体と、前記マスク本体の枠部を支持するマスクフレームと、前記マスクフレームに対応する形状を有し、前記マスク本体と前記マスクフレームとの間に配置される中間部材と、を備え、前記マスク本体と前記中間部材の第1の面とが接合され、前記マスクフレームと前記中間部材の前記第1の面とは反対側の面とが接合されている。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

パターン開口が形成されたパターン部および該パターン部を囲む枠部を有するマスク本体と、 前記マスク本体の枠部を支持するマスクフレームと、 前記マスクフレームに対応する形状を有し、前記マスク本体と前記マスクフレームとの間に配置される中間部材と、を備え、 前記マスク本体と前記中間部材の第1の面とが接合され、前記マスクフレームと前記中間部材の前記第1の面とは反対側の面とが接合されている、 蒸着マスク。

IPC (3件)：

C23C 14/04 ,  H01L 51/50 ,  H05B 33/10

FI (3件)：

C23C14/04 A ,  H05B33/14 A ,  H05B33/10

Fターム (11件)：

3K107AA01 ,  3K107BB01 ,  3K107CC35 ,  3K107DD59 ,  3K107FF15 ,  3K107GG04 ,  3K107GG33 ,  4K029CA01 ,  4K029CA05 ,  4K029HA02 ,  4K029HA03

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 薄膜蒸着用マスクフレーム組立体、その製造方法及び有機発光表示装置の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2010-092561   出願人：三星モバイルディスプレイ株式會社
• マスク組立体、その製造方法及びそれを用いた平板表示装置用蒸着装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2009-299158   出願人：三星モバイルディスプレイ株式會社
• 成膜マスクの製造方法及び成膜マスク
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2013-264326   出願人：株式会社ブイ・テクノロジー
• 成膜マスクの製造方法、成膜マスク及びタッチパネル基板
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2013-157667   出願人：株式会社ブイ・テクノロジー