特許
J-GLOBAL ID:201103077016087528
マスク組立体、その製造方法及びそれを用いた平板表示装置用蒸着装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
八田国際特許業務法人
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-299158
公開番号(公開出願番号):特開2011-068978
出願日: 2009年12月29日
公開日(公表日): 2011年04月07日
要約:
【課題】本発明は、マスク組立体、その製造方法及びこれを用いた平板表示装置用蒸着装置に関し、蒸着工程時に工程チャンバの内部温度により所定パターンで形成される開口部の位置または形態が変化することを防止して基板上に高精細パターンが安定的に蒸着されるようにするマスク組立体、その製造方法及びこれを用いた平板表示装置用蒸着装置を提供する。【解決手段】マスク組立体は、複数の第1開口部が形成されるオープンマスクと、前記オープンマスクに接合され、前記第1開口部内側に位置する複数の第2開口部が形成されるパターンマスクとを含み、前記オープンマスクは前記パターンマスクに比べて相対的に小さい熱膨脹係数を有する物質で形成されることを特徴とする。【選択図】図2A
請求項(抜粋):
複数の第1開口部が形成されたオープンマスクと、
前記オープンマスクに接合され、前記第1開口部内側に位置する複数の第2開口部が形成されたパターンマスクと、を含み、
前記オープンマスクは、前記パターンマスクに比べて相対的に小さい熱膨脹係数を有する物質で形成されることを特徴とするマスク組立体。
IPC (4件):
C23C 14/04
, C23C 14/24
, H05B 33/10
, H01L 51/50
FI (4件):
C23C14/04 A
, C23C14/24 G
, H05B33/10
, H05B33/14 A
Fターム (10件):
3K107AA01
, 3K107BB01
, 3K107CC35
, 3K107CC45
, 3K107FF05
, 3K107GG32
, 3K107GG33
, 4K029HA02
, 4K029HA03
, 4K029HA04
引用特許: