特許
J-GLOBAL ID：201803016891037235
電子装置の製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (6件)：
大塚 康徳
, 高柳 司郎
, 大塚 康弘
, 木村 秀二
, 下山 治
, 永川 行光
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-108372
公開番号（公開出願番号）：特開2014-228708
特許番号：特許第6222989号
出願日： 2013年05月22日
公開日（公表日）： 2014年12月08日
請求項（抜粋）：
【請求項1】パッドを有する部材を用意する工程と、
前記パッドの上にパッシベーション膜を形成する工程と、
前記パッシベーション膜と前記パッシベーション膜の下に位置する絶縁膜に溝を形成する工程と、
前記パッシベーション膜の上と前記溝に第1膜を形成する工程と、
前記第1膜を覆うように第2膜を形成する工程と、
フォトマスクを使ったフォトリソグラフィ工程によって前記第2膜をパターニングする工程と、を含み、
前記第2膜を形成する工程では、前記第2膜における前記溝の上に位置する領域に前記溝に応じた凹部を有するアライメントマークが形成され、
前記第2膜をパターニングする工程では、前記アライメントマークを用いて前記フォトマスクを位置合わせし、
前記溝を形成する工程において、前記パッドを露出させる開口が形成される、ことを特徴とする電子装置の製造方法。
IPC (5件)：
G03F 7/20 ( 200 6.01)
, H01L 27/14 ( 200 6.01)
, G02F 1/1335 ( 200 6.01)
, H01L 21/027 ( 200 6.01)
, G03F 9/00 ( 200 6.01)
G03F 7/20 501
, H01L 27/14
, G02F 1/133 505
, H01L 21/30 507 J
, G03F 9/00
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (8件)
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