特許
J-GLOBAL ID:201803016912672483

低シート抵抗MEOL抵抗の方法および設計

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 園田・小林特許業務法人
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2018-500394
公開番号(公開出願番号):特表2018-524817
出願日: 2016年06月03日
公開日(公表日): 2018年08月30日
要約:
集積回路構造(100)が、半導体基板(102)と、半導体基板(102)内のシャロートレンチアイソレーション(STI)領域(106)と、半導体基板(102)上に形成された1つ以上の能動素子と、STI領域(106)の上に配置された複数の抵抗を有する抵抗アレイ(138)とを含み、抵抗アレイ(138)は、1つ以上の能動素子への相互接続のための1つ以上の相互接続コンタクト層(126,136)の一部を含む。【選択図】図4-1
請求項(抜粋):
半導体基板と、 前記半導体基板内のシャロートレンチアイソレーション(STI)領域と、 前記半導体基板上に形成された1つ以上の能動素子と、 前記STI領域上に配置された複数の抵抗を有する抵抗アレイと を備える集積回路構造であって、 前記抵抗アレイが、前記1つ以上の能動素子への相互接続のための1つ以上の相互接続コンタクト層の一部を含む、集積回路構造。
IPC (5件):
H01L 21/822 ,  H01L 27/04 ,  H01L 21/320 ,  H01L 21/768 ,  H01L 23/532
FI (2件):
H01L27/04 P ,  H01L21/88 Q
Fターム (51件):
5F033HH08 ,  5F033HH11 ,  5F033HH19 ,  5F033HH21 ,  5F033HH25 ,  5F033HH32 ,  5F033HH33 ,  5F033JJ11 ,  5F033JJ19 ,  5F033JJ21 ,  5F033KK04 ,  5F033KK07 ,  5F033KK19 ,  5F033KK21 ,  5F033KK25 ,  5F033KK33 ,  5F033MM01 ,  5F033PP06 ,  5F033PP12 ,  5F033PP15 ,  5F033PP19 ,  5F033PP27 ,  5F033PP28 ,  5F033QQ48 ,  5F033RR02 ,  5F033RR04 ,  5F033RR05 ,  5F033RR07 ,  5F033RR22 ,  5F033RR23 ,  5F033SS04 ,  5F033SS10 ,  5F033SS11 ,  5F033SS15 ,  5F033SS21 ,  5F033TT02 ,  5F033TT04 ,  5F033VV09 ,  5F033WW01 ,  5F033XX05 ,  5F033XX09 ,  5F038AR07 ,  5F038AR16 ,  5F038AR17 ,  5F038AR19 ,  5F038AR22 ,  5F038AR24 ,  5F038CA18 ,  5F038CD10 ,  5F038EZ02 ,  5F038EZ15
引用特許:
出願人引用 (3件)
  • 半導体装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2011-241938   出願人:ルネサスエレクトロニクス株式会社
  • 半導体装置およびその製造方法
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2002-085154   出願人:株式会社デンソー
  • 半導体装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2012-065979   出願人:セイコーインスツル株式会社
審査官引用 (3件)
  • 半導体装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2011-241938   出願人:ルネサスエレクトロニクス株式会社
  • 半導体装置およびその製造方法
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2002-085154   出願人:株式会社デンソー
  • 半導体装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2012-065979   出願人:セイコーインスツル株式会社

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