特許
J-GLOBAL ID:201803016912672483
低シート抵抗MEOL抵抗の方法および設計
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
園田・小林特許業務法人
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2018-500394
公開番号(公開出願番号):特表2018-524817
出願日: 2016年06月03日
公開日(公表日): 2018年08月30日
要約:
集積回路構造(100)が、半導体基板(102)と、半導体基板(102)内のシャロートレンチアイソレーション(STI)領域(106)と、半導体基板(102)上に形成された1つ以上の能動素子と、STI領域(106)の上に配置された複数の抵抗を有する抵抗アレイ(138)とを含み、抵抗アレイ(138)は、1つ以上の能動素子への相互接続のための1つ以上の相互接続コンタクト層(126,136)の一部を含む。【選択図】図4-1
請求項(抜粋):
半導体基板と、
前記半導体基板内のシャロートレンチアイソレーション(STI)領域と、
前記半導体基板上に形成された1つ以上の能動素子と、
前記STI領域上に配置された複数の抵抗を有する抵抗アレイと
を備える集積回路構造であって、
前記抵抗アレイが、前記1つ以上の能動素子への相互接続のための1つ以上の相互接続コンタクト層の一部を含む、集積回路構造。
IPC (5件):
H01L 21/822
, H01L 27/04
, H01L 21/320
, H01L 21/768
, H01L 23/532
FI (2件):
H01L27/04 P
, H01L21/88 Q
Fターム (51件):
5F033HH08
, 5F033HH11
, 5F033HH19
, 5F033HH21
, 5F033HH25
, 5F033HH32
, 5F033HH33
, 5F033JJ11
, 5F033JJ19
, 5F033JJ21
, 5F033KK04
, 5F033KK07
, 5F033KK19
, 5F033KK21
, 5F033KK25
, 5F033KK33
, 5F033MM01
, 5F033PP06
, 5F033PP12
, 5F033PP15
, 5F033PP19
, 5F033PP27
, 5F033PP28
, 5F033QQ48
, 5F033RR02
, 5F033RR04
, 5F033RR05
, 5F033RR07
, 5F033RR22
, 5F033RR23
, 5F033SS04
, 5F033SS10
, 5F033SS11
, 5F033SS15
, 5F033SS21
, 5F033TT02
, 5F033TT04
, 5F033VV09
, 5F033WW01
, 5F033XX05
, 5F033XX09
, 5F038AR07
, 5F038AR16
, 5F038AR17
, 5F038AR19
, 5F038AR22
, 5F038AR24
, 5F038CA18
, 5F038CD10
, 5F038EZ02
, 5F038EZ15
引用特許:
出願人引用 (3件)
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半導体装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2011-241938
出願人:ルネサスエレクトロニクス株式会社
-
半導体装置およびその製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2002-085154
出願人:株式会社デンソー
-
半導体装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2012-065979
出願人:セイコーインスツル株式会社
審査官引用 (3件)
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半導体装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2011-241938
出願人:ルネサスエレクトロニクス株式会社
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半導体装置およびその製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2002-085154
出願人:株式会社デンソー
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半導体装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2012-065979
出願人:セイコーインスツル株式会社
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