モリブデン酸化物ナノ粒子を内包する中空シリカ粒子、その製造方法、及びそれを含む触媒

発明者： , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (4件)：長谷川芳樹 , 黒木義樹 , 清水義憲 , 平野裕之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-193495
公開番号（公開出願番号）：特開2018-052787
出願日： 2016年09月30日
公開日（公表日）： 2018年04月05日
要約：

【課題】モリブデン酸化物ナノ粒子を内包し、ヨークシェル型触媒として好適に利用可能な中空シリカ粒子及びその製造方法を提供すること。【解決手段】塩基性溶液中でカルボキシル基を有するポリマーとモリブデン源とを混合する混合工程と、塩基性溶液に還元剤を添加して、モリブデン源からモリブデン酸化物ナノ粒子を形成させる還元工程と、塩基性溶液にシリカ源を添加して、ポリマー及びモリブデン酸化物ナノ粒子を内包するシリカシェルを形成させるシェル形成工程と、シリカシェル内からポリマーを除去して、モリブデン酸化物ナノ粒子を内包する中空シリカ粒子を得る除去工程と、を備える、中空シリカ粒子の製造方法。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

塩基性溶液中でカルボキシル基を有するポリマーとモリブデン源とを混合する混合工程と、前記塩基性溶液に還元剤を添加して、前記モリブデン源からモリブデン酸化物ナノ粒子を形成させる還元工程と、前記塩基性溶液にシリカ源を添加して、前記ポリマー及び前記モリブデン酸化物ナノ粒子を内包するシリカシェルを形成させるシェル形成工程と、前記シリカシェル内から前記ポリマーを除去して、前記モリブデン酸化物ナノ粒子を内包する中空シリカ粒子を得る除去工程と、を備える、中空シリカ粒子の製造方法。

IPC (5件)：

C01B 33/18 , B01J 23/28 , C07D 301/19 , C07D 303/04 , B01J 35/08

FI (5件)：

C01B33/18 Z , B01J23/28 Z , C07D301/19 , C07D303/04 , B01J35/08 A

Fターム (52件)：

4C048AA02 , 4C048BB02 , 4C048BC01 , 4C048CC01 , 4C048XX05 , 4G072AA35 , 4G072BB07 , 4G072BB16 , 4G072DD08 , 4G072GG02 , 4G072HH30 , 4G072LL06 , 4G072MM21 , 4G072MM23 , 4G072MM26 , 4G072MM31 , 4G072MM36 , 4G072QQ20 , 4G072RR12 , 4G072TT05 , 4G072TT06 , 4G072UU15 , 4G169AA03 , 4G169BA02A , 4G169BA02B , 4G169BA22C , 4G169BB04A , 4G169BB04B , 4G169BB20C , 4G169BC02C , 4G169BC59A , 4G169BC59B , 4G169BD01C , 4G169BD02C , 4G169BD03C , 4G169BD04C , 4G169BD05C , 4G169BD06C , 4G169BE06C , 4G169BE08C , 4G169CB07 , 4G169CB73 , 4G169DA06 , 4G169EA02X , 4G169EA02Y , 4G169EE01 , 4G169FB05 , 4G169FB08 , 4G169FB27 , 4G169FB30 , 4G169FB45 , 4G169FB57

引用文献：

出願人引用 (1件)

Journal of the American Chemical Society, 20121003, Vol.134, No.39, pp.16235-16246

審査官引用 (1件)

Journal of the American Chemical Society, 20121003, Vol.134, No.39, pp.16235-16246

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