特許
J-GLOBAL ID:201803020077021430
半導体装置
発明者:
,
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出願人/特許権者:
代理人 (3件):
長谷川 芳樹
, 黒木 義樹
, ▲高▼木 邦夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2016-255233
公開番号(公開出願番号):特開2018-107387
出願日: 2016年12月28日
公開日(公表日): 2018年07月05日
要約:
【課題】アイソレーションの劣化を発生させないようにメタルパターンを追加して、半導体装置の小型化を図る方法を提供する。【解決手段】半導体装置は、第1リードと、第2リードと、パッケージ枠体と、パッケージ枠体上に配置され、その上に第1リードが接合される第1メタライズパターンと、パッケージ枠体上に配置され、その上に第2リードと接続されるとともに、第1リードから露出する第1メタライズパターンの領域に比べて、第2リードから露出した領域が大きい延長領域を有する第2メタライズパターンと、第1リードと接続される第1整合素子と、整合素子と第2リードとの間に接続される半導体チップと、を備えている。【選択図】図1
請求項(抜粋):
第1リードと、
第2リードと、
パッケージ枠体と、
前記パッケージ枠体上に配置され、その上に前記第1リードが接合される第1メタライズパターンと、
前記パッケージ枠体上に配置され、その上に前記第2リードと接続されるとともに、前記第1リードから露出する前記第1メタライズパターンの領域に比べて、前記第2リードから露出した領域が大きい延長領域を有する第2メタライズパターンと、
前記第1リードと接続される第1整合素子と、
前記整合素子と前記第2リードとの間に接続される半導体チップと、
を備える半導体装置。
IPC (5件):
H01L 23/02
, H01L 23/04
, H01L 23/10
, H01L 23/08
, H01L 23/12
FI (5件):
H01L23/02 H
, H01L23/04 E
, H01L23/10 B
, H01L23/08 C
, H01L23/12 301C
引用特許: