特許
J-GLOBAL ID：201803020483223788
断面観察薄片の裏側薄化用の高スループットTEM調製プロセスおよびハードウェア
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
雨貝 正彦
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-544945
特許番号：特許第6224612号
出願日： 2012年11月30日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 サンプルを画像化用に調製する方法であり、前記サンプルが加工物から形成され、上側および裏側を有し、前記サンプルが、前記裏側から導かれたイオン・ビームを使用して前記サンプルを薄化することによって画像化用に調製される方法であって、
前記サンプルの前記上側に前記サンプルの上面と第1の角度をなすプローブを取り付けることを含み、
前記加工物から前記サンプルを抜き取ること、
前記プローブを180度回転させて、前記サンプルの前記上面の向きを水平位置から転置された位置に変化させること、
傾斜可能なサンプル・ホルダに、前記サンプルを、前記サンプルの前記上面がサンプル・ホルダ平面に対して直角になるように取り付けることであって、前記サンプル・ホルダ平面は、サンプルステージ上に配置されている前記サンプル・ホルダの表面に対して平行な平面であること、
前記サンプル・ホルダの平面の向きが前記サンプルステージに対して90度になり、前記サンプルの前記裏側が前記サンプルステージから遠ざかる方向を向くように、前記サンプル・ホルダを傾けること、
前記サンプルの前記上面の向きがFIBカラムの光軸に対してほぼ直角になり、前記サンプルの前記裏側が前記FIBカラムの方を向くように、前記サンプルステージを傾けること、
前記イオン・ビームを使用して前記サンプルを前記裏側からミリングすることによって、前記サンプルを、前記サンプルの第1の側面から薄化すること、
前記ステージを180度回転させること、ならびに
前記イオン・ビームを使用して前記サンプルを前記裏側からミリングすることによって、前記サンプルを前記サンプルの第2の側から薄化することを含み、前記第2の側面を前記第2の側面から前記薄化することが、前記サンプルを前記第1の側面から薄くすることによって形成された表面に対して平行な表面を形成する
方法。
IPC (3件)：
G01N 1/28 ( 200 6.01)
, H01J 37/317 ( 200 6.01)
, H01J 37/31 ( 200 6.01)
G01N 1/28 F
, H01J 37/317 D
, H01J 37/31
, G01N 1/28 G
